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J-GLOBAL ID：201702252550556803   整理番号：17A0310814

低濃度銅イオン除去のためのキトサン膜吸着装置【Powered by NICT】

Chitosan membrane adsorber for low concentration copper ion removal

著者 (8件)： Wang Xiaomin (National Key Laboratory of Biochemical Engineering, Institute of Process Engineering, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100190, China) ,  Wang Xiaomin (Key Laboratory of Green Process and Engineering, Institute of Process Engineering, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100190, China) ,  Wang Xiaomin (University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100049, China) ,  Li Yanxiang (National Key Laboratory of Biochemical Engineering, Institute of Process Engineering, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100190, China) ,  Li Yanxiang (Key Laboratory of Green Process and Engineering, Institute of Process Engineering, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100190, China) ,  Li Haigang (National Key Laboratory of Biochemical Engineering, Institute of Process Engineering, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100190, China) ,  Yang Chuanfang (National Key Laboratory of Biochemical Engineering, Institute of Process Engineering, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100190, China) ,  Yang Chuanfang (Key Laboratory of Green Process and Engineering, Institute of Process Engineering, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100190, China)
資料名： Carbohydrate Polymers  (Carbohydrate Polymers)
巻： 146  ページ： 274-281  発行年： 2016年08月01日 
JST資料番号： E0961A  ISSN： 0144-8617  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 対称と相互接続した細孔構造を有する薄いキトサン膜をポロゲンとしてシリカを用いて調製し,細孔構造,細孔径分布,空隙率および水親和性を含むそれらの物理的特性を分析した。膜は静的吸着の最大Cu(II)吸着容量87.5mg/gを示し,吸着は擬二次速度式とToth吸着等温線に適合した。膜を次に吸着動的水からの低濃度Cu(II)を除去するために層に積層した。5mg/Lの供給濃度では,その厚さは200μm以上に達した時に吸着はCu(II)を効率的に保持でき,性能はさらに膜層を用いて改善した。ある限界内では,吸着装置は,流量非依存の負荷挙動,膜内部の高速物質移動の適応を示した。吸着プロセスは床深さサービス時間(BDST)モデル,ThomasモデルとYoonとNelsonモデルと良く相関し,吸着も再生可能で再利用可能であることが分かった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 空隙率 ,  レート方程式 ,  物質移動 ,  親和性 ,  吸着等温式 ,  二酸化ケイ素 ,  *吸着 ,  相互接続 ,  細孔径分布 ,  *吸着装置 ,  再利用 ,  細孔構造
準シソーラス用語： 吸着容量 ,  *キトサン膜 ,  *銅イオン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 膜吸着装置 ,  対称構造 ,  銅イオン ,  水処理 ,  破過曲線

分類 (1件)： 多糖類  (CF10054P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 低濃度 ,  銅イオン ,  キトサン膜 ,  吸着装置