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J-GLOBAL ID：201702253769934614   整理番号：17A0260651

LU_2SIO_5:CE(3+)透明薄膜の調製と発光特性を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Preparation and Luminescence Properties of Lu_2SiO_5: Ce(3+) Thin Film

著者 (9件)： Wu Shuang (Shanghai Key Laboratory of Special Artificial Microstructure Materials and Technology,School of Physics Science and Engineering,Tongji University) ,  Liu Bo (Shanghai Key Laboratory of Special Artificial Microstructure Materials and Technology,School of Physics Science and Engineering,Tongji University) ,  Chen Shiwei (Shanghai Key Laboratory of Special Artificial Microstructure Materials and Technology,School of Physics Science and Engineering,Tongji University) ,  Zhang Juannan (Shanghai Key Laboratory of Special Artificial Microstructure Materials and Technology,School of Physics Science and Engineering,Tongji University) ,  Liu Xiaolin (Shanghai Key Laboratory of Special Artificial Microstructure Materials and Technology,School of Physics Science and Engineering,Tongji University) ,  Gu Mu (Shanghai Key Laboratory of Special Artificial Microstructure Materials and Technology,School of Physics Science and Engineering,Tongji University) ,  Huang Shiming (Shanghai Key Laboratory of Special Artificial Microstructure Materials and Technology,School of Physics Science and Engineering,Tongji University) ,  Ni Chen (Shanghai Key Laboratory of Special Artificial Microstructure Materials and Technology,School of Physics Science and Engineering,Tongji University) ,  Xue Chaofan (Shanghai Institute of Applied Physics,Chinese Academy of Sciences)
資料名： Wuji Cailiao Xuebao  (Wuji Cailiao Xuebao)
巻： 31  号： 9  ページ： 948-954  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2432A  ISSN： 1000-324X  CODEN： WCXUET  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： LU_2SIO_5;CE(3+)薄膜は,高収率,高速減衰時間,高密度,高空間分解能などの利点があり,X線検出におけるシンチレーション材料として有望であるが,高品質の薄膜を調製することは挑戦に直面している。本研究では、ゾル-レジストを用いて、調製過程におけるSI、焼結プログラム、接着剤と固形物などの四つの要素について系統的な研究と分析を行った。空気湿度85%,ゾル-ゲル比6.6の条件下で,PEG400の適切な量を添加することにより,450°Cからのアニーリング後に,高品質LU_2SIO_5を調製することができた。CE(3+)シンチレーション膜は,単一膜で得られた膜厚は167NMであった。実験結果は,水の含有量が膜の白化を引き起こす主な要因であることを示した。焼結プロセスは,膜の有機物の分解度と結晶化状態を決定した。溶Jiao固の含有量と接着剤含有量は薄膜の厚さを制御する重要な方法である。本研究はLU_2SIO_5である。CE(3+)シンチレーション膜の実用化のための基礎を築いた。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 湿度 ,  膜厚 ,  レジスト ,  高速度 ,  X線検出 ,  焼結 ,  減衰時間 ,  シンチレーション ,  *薄膜 ,  接着剤 ,  焼なまし
準シソーラス用語： 高品質 ,  高空間分解能 ,  高密度 ,  *発光特性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： Lu_2SiO_5: Ce(3+) thin film ,  H_2O-Si ratio ,  sintering process ,  adhesive ,  solid content ,  luminescence properties

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  半導体のルミネセンス  (BM08092S)

タイトルに関連する用語 (5件)： Ce ,  薄膜 ,  調製 ,  発光特性 ,  研究