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J-GLOBAL ID:201702254538479525   整理番号:17A0412040

エーロゾル化学蒸着プロセスにおけるナノ構造薄膜形態のモデルに基づく予測【Powered by NICT】

Model based prediction of nanostructured thin film morphology in an aerosol chemical vapor deposition process
著者 (7件):
資料名:
巻: 310  号: P1  ページ: 102-113  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0723A  ISSN: 1385-8947  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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エーロゾル化学蒸着(ACVD)プロセスは,ナノ構造金属酸化物薄膜の一段階合成するための有望な方法であることを示した。多重プロセスパラメータはナノ構造形態と薄膜の成長を制御する。本研究では,薄膜の形態を支配するこれらのパラメータの役割を理解するためのシミュレーションに基づくアプローチを利用することに焦点を当てた。有限要素計算流体力学モデルに基づく,区分(discrete-sectional)エーロゾルモデルと結合した,粒径分布の進化と合成したナノ構造膜の形態を予測するために定式化した境界層拡散と焼結モデル。モデルにより予測された形態は実験観察によって検証した。モデルはスケールアップとACVDプロセスのより広い応用を可能にし,他の気相蒸着システムに拡張することができる。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
下水,廃水の化学的処理  ,  反応操作(単位反応) 

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