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J-GLOBAL ID：201702254737308654   整理番号：17A0749458

界面工学を経由した鉛フリー酸化物多層フィルムコンデンサの超高エネルギー貯蔵性能【Powered by NICT】

Ultrahigh Energy Storage Performance of Lead-Free Oxide Multilayer Film Capacitors via Interface Engineering

著者 (11件)： Sun Zixiong (School of Electronic and Information Engineering and, State Key Laboratory for Mechanical Behavior of Materials, Xi’an Jiaotong University, Xi’an, 710049, P. R. China) ,  Ma Chunrui (State Key Laboratory for Mechanical Behavior of Materials and, School of Material Science and Engineering, Xi’an Jiaotong University, Xi’an, 710049, P. R. China) ,  Liu Ming (School of Electronic and Information Engineering and, State Key Laboratory for Mechanical Behavior of Materials, Xi’an Jiaotong University, Xi’an, 710049, P. R. China) ,  Cui Jin (School of Electronic and Information Engineering and, State Key Laboratory for Mechanical Behavior of Materials, Xi’an Jiaotong University, Xi’an, 710049, P. R. China) ,  Lu Lu (School of Electronic and Information Engineering and, State Key Laboratory for Mechanical Behavior of Materials, Xi’an Jiaotong University, Xi’an, 710049, P. R. China) ,  Lu Jiangbo (School of Electronic and Information Engineering and, State Key Laboratory for Mechanical Behavior of Materials, Xi’an Jiaotong University, Xi’an, 710049, P. R. China) ,  Lou Xiaojie (Frontier Institute of Science and Technology, Xi’an Jiaotong University, Xi’an, 710049, China) ,  Jin Lei (Peter Gruenberg Institute and Ernst Ruska Centre for Microscopy and Spectroscopy with Electrons, Forschungszentrum Juelich, D-52425, Juelich, Germany) ,  Wang Hong (School of Electronic and Information Engineering and, State Key Laboratory for Mechanical Behavior of Materials, Xi’an Jiaotong University, Xi’an, 710049, P. R. China) ,  Jia Chun-Lin (School of Electronic and Information Engineering and, State Key Laboratory for Mechanical Behavior of Materials, Xi’an Jiaotong University, Xi’an, 710049, P. R. China) ,  Jia Chun-Lin (Peter Gruenberg Institute and Ernst Ruska Centre for Microscopy and Spectroscopy with Electrons, Forschungszentrum Juelich, D-52425, Juelich, Germany)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 29  号： 5  ページ： ROMBUNNO.201604427  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 楽観的効率72.3%で52.4J cm~ 3の超高エネルギー貯蔵密度は室温でエピタキシャル鉛フリー酸化物多層膜の界面工学によって達成される。さらに,性能の優れた熱安定性は,過酷な作業環境における最新の電子とパワーモジュールにおける薄膜系の広範な応用のための固体基礎を提供する。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 多層膜 ,  *界面 ,  薄膜 ,  熱安定性 ,  *酸化物 ,  *エネルギー貯蔵 ,  作業環境 ,  *多層 ,  エピタクシー
準シソーラス用語： パワーモジュール ,  *フィルムコンデンサ ,  *鉛フリー , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： dielectrics ,  エネルギー貯蔵密度 ,  鉛フリーセラミック ,  熱安定性 ,  薄膜

分類 (1件)： 固-固界面  (CB12060M)

タイトルに関連する用語 (8件)： 界面 ,  工学 ,  鉛フリー ,  酸化物 ,  多層フィルム ,  コンデンサ ,  高エネルギー ,  貯蔵