重合後修飾による位置規則性ポリ(3 ヘキシルチオフェン)を含む両親媒性ジブロック共重合体の合成と光学的研究【Powered by NICT】

Nguyen Thu Anh; Nguyen Trung Thanh; Nguyen Le-Thu T.; Van Le Thang; Van Le Thang; Nguyen Ha Tran; Nguyen Ha Tran

文献

J-GLOBAL ID：201702254877196243 整理番号：17A0311335

重合後修飾による位置規則性ポリ(3 ヘキシルチオフェン)を含む両親媒性ジブロック共重合体の合成と光学的研究【Powered by NICT】

Synthesis and optical investigation of amphiphilic diblock copolymers containing regioregular poly(3-hexylthiophene) via post-polymerization modification

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=17A0311335&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=17A0311335&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=C0123B") }}

著者 (7件)： , , , , , ,
資料名：
巻： 217 ページ： 172-184 発行年： 2016年07月
JST資料番号： C0123B ISSN： 0379-6779 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

本論文では,位置規則性ポリ(3 ヘキシルチオフェン)(P3HT)ブロックとポリ(N,N-ジメチルアミノ-2-エチルメタクリラート-random-2-ヒドロキシエチルメタクリル酸)(P(DMAEMA r HEMA))のブロックから成る両親媒性ジブロック共重合体の合成と特性について報告した。明確なロッド-コイルP3HT b P(DMAEMA r HEMA))ジブロック共重合体を擬リビングGrignardメタセシス(GRIM)重合,末端基修飾,原子移動ラジカル重合(ATRP),および後重合改質ジブロック共重合体前駆体の組合せにより合成し,1.5以下の低多分散性を持つ平均分子量約11,000g/molを示した。P3HT b P(DMAEMA r HEMA))ジブロック共重合体は容易にアニオン性またはカチオン性両親媒性ジブロック共重合体を得るためにHEMAのヒドロキシル基のエステル化とDMAEMA単位のアミン四級化による両親媒性ジブロック共重合体に変換した。得られたジブロック共重合体の構造と性質を,プロトン核磁気共鳴(~1H NMR),ゲル浸透クロマトグラフィー,Fourier変換赤外分光法,紫外可視分光法及び示差走査熱量測定によって特性化した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

, , , , , , , , , , , ,
, , , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： , , , ,

高分子固体の物理的性質

, , , , , ,

前のページに戻る