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J-GLOBAL ID:201702255190872785   整理番号:17A0406314

放電計算機数値制御蒸着によるTC11基板上AlCoCrFeNi高エントロピー合金コーティングの物質移動傾向【Powered by NICT】

Mass transfer trends of AlCoCrFeNi high-entropy alloy coatings on TC11 substrate via electrospark - computer numerical control deposition
著者 (6件):
資料名:
巻: 241  ページ: 93-102  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0650A  ISSN: 0924-0136  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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放電計算機数値制御蒸着(ES CNCD),新しい電気スパーク堆積(ESD)法はES計算機統合堆積システム(ES CIDS)に基づいて提案した。ES CIDSは,受動exsertile/開閉式パターン特別な蒸着ホルダによるESD溶接機を用いた3軸CNCフライス盤を統合した。ES CNCD過程は金属表面を改質するために短時間の大電流電気パルスを採用した。AlCoCrFeNi高エントロピー合金(HEA)は,溶接スポットパターン蒸着法を介してTC11チタン合金基板上にHEA被覆を調製するために電極として使用した。三量カソード質量増加(CMG),アノード質量増加(AMG)と物質移動係数(MTC)はES CNCDプロセスのための再定義した。CMG,AMG,MTCに及ぼすプロセスパラメータの影響を直交実験設計により調べた。ES CNCDプロセスの物質移動の物理的モードを実験により提案し,確認した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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