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J-GLOBAL ID:201702258446692956   整理番号:17A0125305

ポリ(テレフタル酸エチレン)-ナノダイヤモンド-グラフェンナノ小板ナノ複合材料の耐陽子放射性

Proton-radiation resistance of poly(ethylene terephthalate)-nanodiamond-graphene nanoplatelet nanocomposites
著者 (10件):
資料名:
巻: 51  号:ページ: 1000-1016  発行年: 2016年01月 
JST資料番号: B0722A  ISSN: 0022-2461  CODEN: JMTSAS  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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高放射性環境での適用のための高性能の高分子ナノ複合材料を創製するために,1wt%のカルボキシル基末端ナノダイヤモンドまたはナノダイヤモンドおよび0.3wt%ナノグラフェン小板で強化したポリ(テレフタル酸エチレン)ナノ複合材料を二軸押出機における単純な融解混合で調製した。ポリ(テレフタル酸エチレン)とそのナノ複合材料の高エネルギー,3MeV陽子ビーム照射で導入された構造改変の研究を,減衰全反射Fourier変換赤外およびRaman分光法,示差走査熱量測定,そして光ルミネセンス測定を用いて行った。低濃度のナノダイヤモンドまたはナノダイヤモンドプラスナノグラフェン小板を含む複合材料は,同一照射条件下で陽子照射に曝露された純ポリ(テレフタル酸エチレン)と比較して改善された耐放射線性を示すことが分かった。ナノダイヤモンドとナノグラフェン小板の組合せを含むナノ複合材料は最高の安定性を示した。ナノフィラー,とくにナノグラフェン小板は照射されたナノ複合材料の高分子形態,分子量分布,そして全体的な熱特性を維持しながら,陽子照射に曝露された高分子マトリックスの非晶質相を安定化し結晶度を高めた。Copyright 2015 Springer Science+Business Media New York Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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抵抗性 

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