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J-GLOBAL ID：201702258524482490   整理番号：17A0434701

静磁場下における電磁浮遊Cu-Co合金液滴内MHD対流の層流-乱流遷移

著者 (6件)： 多奈田紘希 (東北大 大学院) ,  庄司衛太 (東北大 大学院) ,  久保正樹 (東北大 大学院) ,  塚田隆夫 (東北大 大学院) ,  杉岡健一 (富山県大 工) ,  福山博之 (東北大 多元物質科研)
資料名： 化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM)  (化学工学会年会(CD-ROM))
巻： 82nd  ページ： ROMBUNNO.PE316  発行年： 2017年03月06日 
JST資料番号： X0547B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *銅合金 ,  コバルト含有合金 ,  メルト ,  静磁場 ,  浮遊 ,  *浮遊融解 ,  境界層遷移 ,  *相分離 ,  範囲 ,  対流
準シソーラス用語： 過冷却液体領域 ,  電磁浮遊

分類 (1件)： 電磁流体力学  (BC05000Q)

タイトルに関連する用語 (9件)： 静磁場 ,  電磁浮遊 ,  Cu ,  Co合金 ,  液滴 ,  MHD ,  対流 ,  層流 ,  乱流遷移