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J-GLOBAL ID：201702259434058494   整理番号：17A0073190

異なるアルゴン雰囲気下でのバナジウムターゲットのコロナ放電特性の進展を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Evolution of Discharge Characteristics of High Power Impulse Magnetron Sputtering Vanadium Target under Various Argon Pressures

著者 (4件)： Li Chunwei (College of Engineering and Technology, Northeast Forestry University, State Key Laboratory of Advanced Welding and Joining) ,  Tian Xiubo (State Key Laboratory of Advanced Welding and Joining, Harbin Institute of Technology) ,  Gong Chunzhi (State Key Laboratory of Advanced Welding and Joining, Harbin Institute of Technology) ,  Xu Jianping (Department of Materials and Chemical Engineering, Heilongjiang Institute of Technology)
資料名： Biaomian Jishu  (Biaomian Jishu)
巻： 45  号： 8  ページ： 103-109  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2656A  ISSN： 1001-3660  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 目的:Vターゲットを例として、高出力パルスマグネトロンスパッタリング(HIPIMS)放電時の異なる作動気圧のパルス電流とプラズマ発光スペクトルの表現形式と進化規律を研究し、HIPIMS技術の更なる応用に理論的根拠を提供する。方法:デジタルオシロスコープを用いて、パルス放電電流波形を収集し、発光スペクトルを用いて、異なる放電状態下のスペクトル線を記録し、異なる気圧下でVターゲットのコロナ放電特性の変化規律を分析した。同時に,HIPIMS膜を用いて,V膜を調製し,走査電子顕微鏡を用いて,V膜の断面形態を観察した。結果:異なるアルゴンガス圧力下で,ターゲット電流ピーク値とターゲット電流プラトーの平均電流は単調に増加し,一方,ターゲット電流ピーク値は増加し,ピーク電流はガス放電により決定された。AR0,AR+,V0とV+の4つのスペクトルのスペクトル強度は,異なる圧力の下で増加し,同じターゲット電圧では,圧力の増加とともに増加した。圧力が0.9PA,ターゲット電圧が610Vのとき,ARとVのイオンはそれぞれ78%と35%であった。さらに,HIPIMS法により調製したV膜は,滑らかで,コンパクトで,无柱状晶の形態学的特性を示した。結論:より高い作動圧力とより高い電圧は,より高いシステム粒子サイズを得ることができるが,しかし,HIPIMSの不安定性が存在する。適切な作動圧力は,高品質膜を得るための鍵である。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 電流 ,  スペクトル線強度 ,  モルフォロジー ,  ピーク値 ,  スペクトル ,  *コロナ放電 ,  走査電子顕微鏡 ,  粒度 ,  パルス放電 ,  *放電 ,  柱状晶
準シソーラス用語： ピーク電流 ,  電流波形 ,  パルス電流 ,  高出力 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： high power impulse magnetron sputtering ,  argon pressure ,  vanadium target ,  discharge target current ,  spectral characteristics ,  vanadium films

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： アルゴン雰囲気 ,  バナジウム ,  ターゲット ,  コロナ ,  放電特性 ,  進展 ,  研究