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J-GLOBAL ID：201702261109236966   整理番号：17A0314687

異なるガス雰囲気中でのUVレーザ直接加工によるポリイミドの表面濡れ性の調整【Powered by NICT】

Tailoring the surface wettability of polyimide by UV laser direct texturing in different gas atmospheres

著者 (5件)： Du Qifeng (Functional Laboratory of Laser and Terahertz Technology, Wuhan National Laboratory for Optoelectronics (WNLO), Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, PR China) ,  Liu Jianguo (Functional Laboratory of Laser and Terahertz Technology, Wuhan National Laboratory for Optoelectronics (WNLO), Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, PR China) ,  Guo Lianbo (Functional Laboratory of Laser and Terahertz Technology, Wuhan National Laboratory for Optoelectronics (WNLO), Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, PR China) ,  Lv Ming (Functional Laboratory of Laser and Terahertz Technology, Wuhan National Laboratory for Optoelectronics (WNLO), Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, PR China) ,  Zeng Xiaoyan (Functional Laboratory of Laser and Terahertz Technology, Wuhan National Laboratory for Optoelectronics (WNLO), Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, PR China)
資料名： Materials & Design  (Materials & Design)
巻： 104  ページ： 134-140  発行年： 2016年08月15日 
JST資料番号： A0495B  ISSN： 0264-1275  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリイミド膜の表面濡れ性改質は,UVレーザ直接テクスチャリング(UVLDT)によって研究した。表面微細構造,化学組成および濡れ性に及ぼすレーザフルエンスの影響を空気,O_2,N_2雰囲気中で調べた。走査電子顕微鏡(SEM),表面プローブ形状測定,X線光電子分光法(XPS),及び水接触角測定は,レーザテクスチャ表面の特性化に利用した。同じ改質雰囲気中で,表面微細構造と粗さは種々のレーザフルエンスをもつポリイミド薄膜の濡れ挙動を変化させる主要な役割をplaidことが分かった。しかし,三つの異なる雰囲気中でポリイミド膜は同じレーザフルエンスで集合組織化した場合,表面微細構造と粗さの有意差は認められなかった。,XPS分析はO_2雰囲気は表面酸素含有基を増加させ,超親水性を実現するための最も好ましい環境であることを示した。一方,N_2雰囲気中で,少なくとも酸素含有基が生成し,超親水性表面を得ることができなかった。濡れ性に及ぼす異なる改質雰囲気の影響は表面化学の変化によるものであることを推論することができる。ぬれ機構・加工超親水性ポリイミドフィルムを理解することは,フレキシブルエレクトロニクス,マイクロフルイディクスと接着応用のための表面工学の発展に有用であろう。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 走査電子顕微鏡 ,  *ポリイミド ,  化学組成 ,  マイクロフルイディクス ,  キャラクタリゼーション ,  *濡れ ,  形状測定 ,  テキスチャード加工 ,  *紫外レーザ ,  界面化学 ,  X線光電子分光法
準シソーラス用語： 超親水性 ,  水接触角 ,  レーザフルエンス ,  *表面濡れ性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： UVレーザテクスチャリング ,  ポリイミドフィルム ,  Microstructure ,  表面化学 ,  濡れ挙動

分類 (3件)： ろう付  (WC07050C) ,  機械的性質  (WB02030U) ,  変態組織,加工組織  (WB01030N)

タイトルに関連する用語 (4件)： ガス雰囲気 ,  UVレーザ ,  ポリイミド ,  表面濡れ性