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J-GLOBAL ID：201702263063438806   整理番号：17A0758723

簡単な化学酸化によるナフタレンジイミドのラジカル及びジラジカル形成【Powered by NICT】

Radical and Diradical Formation in Naphthalene Diimides through Simple Chemical Oxidation

著者 (7件)： Lee Sangsu (Department of Chemistry and Spectroscopy, Laboratory for Functional π-Electronic Systems, Yonsei University, Seoul, 03722, Korea) ,  Miao Fang (Department of Chemistry, National University of Singapore, 3 Science Drive 3, 117543, Singapore, Singapore) ,  Phan Hoa (Department of Chemistry, National University of Singapore, 3 Science Drive 3, 117543, Singapore, Singapore) ,  Herng Tun Seng (Department of Materials Science & Engineering, National University of Singapore, 119260, Singapore, Singapore) ,  Ding Jun (Department of Materials Science & Engineering, National University of Singapore, 119260, Singapore, Singapore) ,  Wu Jishan (Department of Chemistry, National University of Singapore, 3 Science Drive 3, 117543, Singapore, Singapore) ,  Kim Dongho (Department of Chemistry and Spectroscopy, Laboratory for Functional π-Electronic Systems, Yonsei University, Seoul, 03722, Korea)
資料名： ChemPhysChem  (ChemPhysChem)
巻： 18  号： 6  ページ： 591-595  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1265A  ISSN： 1439-4235  CODEN： CPCHFT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 著者らは初めて,ナフタレンジイミド(NDI)ラジカルと二酸化鉛(IV)を用いた単純な化学的酸化によるジラジカルの合成に成功した。(ジ)ラジカルの形成はUV/Vis/NIR吸収,~1H NMR,および電子常磁性共鳴(EPR)測定によって確認した。特に,温度依存E PR,SQUID(超伝導量子干渉素子)測定,及び量子計算の結果は生成したNDIジラジカルは基底状態で0.69の一重項ジラジカル特性を有することを示した。この(ジ)ラジカルのその後の特性化は,その安定性,大きな二光子吸収断面積,及び短い励起状態寿命を明らかにした。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： ESR【磁気共鳴】 ,  基底状態 ,  酸化鉛 ,  温度依存性 ,  *酸化 ,  一重項 ,  励起状態 ,  SQUID ,  *ラジカル ,  キャラクタリゼーション ,  NMR【磁気共鳴】 ,  量子計算
準シソーラス用語： 吸収断面積 ,  二光子 ,  *ジラジカル , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ナフタレンジイミド ,  oxidation ,  radicals ,  セクステット則 ,  一重項ジラジカル

分類 (2件)： 物理化学一般  (CB01010X) ,  分子の電子構造  (BH05010Q)

タイトルに関連する用語 (4件)： 化学 ,  酸化 ,  ラジカル ,  ジラジカル