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J-GLOBAL ID：201702263347329726   整理番号：17A0174111

マグネトロンスパッタリングによって調製したMO皮膜の形態と構造に及ぼすスパッタリング圧力の影響を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Influence of Working Pressure on Morphologies and Microstructures of Magnetron Sputtered Mo Back Electrode

著者 (9件)： Song Binbin (National Institute of Clean-and-Low-Carbon Energy, Beijing Engineering Research Center of Nano-Structured Thin-Film Solar Cell) ,  Yu Tao (National Institute of Clean-and-Low-Carbon Energy, Beijing Engineering Research Center of Nano-Structured Thin-Film Solar Cell) ,  Zhang Chuansheng (National Institute of Clean-and-Low-Carbon Energy, Beijing Engineering Research Center of Nano-Structured Thin-Film Solar Cell) ,  Li Boyan (National Institute of Clean-and-Low-Carbon Energy, Beijing Engineering Research Center of Nano-Structured Thin-Film Solar Cell) ,  Li Xinlian (National Institute of Clean-and-Low-Carbon Energy, Beijing Engineering Research Center of Nano-Structured Thin-Film Solar Cell) ,  Quo Kai (National Institute of Clean-and-Low-Carbon Energy, Beijing Engineering Research Center of Nano-Structured Thin-Film Solar Cell) ,  Zuo Ning (National Institute of Clean-and-Low-Carbon Energy, Beijing Engineering Research Center of Nano-Structured Thin-Film Solar Cell) ,  Zhao Shuli (National Institute of Clean-and-Low-Carbon Energy, Beijing Engineering Research Center of Nano-Structured Thin-Film Solar Cell) ,  Chen Jie (National Institute of Clean-and-Low-Carbon Energy, Beijing Engineering Research Center of Nano-Structured Thin-Film Solar Cell)
資料名： Cailiao Daobao  (Cailiao Daobao)
巻： 30  号： 8B  ページ： 35-38,059  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2126A  ISSN： 1005-023X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 直流マグネトロンスパッタリング法を用いて,スパッタリング圧力を0.1とした。金属MO膜をL.OPAで調製した。走査電子顕微鏡(SEM)と原子間力顕微鏡(AFM)を用いて、単層MO膜の表面、断面形態と粗さに対して分析とキャラクタリゼーションを行った。X線回折(XRD)を用いて,MOの結晶粒度と応力歪に及ぼす圧力の影響を研究した。二重層と三層MO層の表面形態をSEMで観察した。結果は,スパッタリング圧力が増加すると,表面粒子が細長いからLEVESになり,二乗平均平方根の粗さが増加し,その値が1.32であることを示した。4.81NMであった。MO膜の結晶粒度は気圧の上昇と共に低下し,その値は27.2であった。11.7NMであった。スパッタリング圧力が0.2PAと0.3PAのとき,MO膜は引張応力を示した。二重層MO電極の表面に0.7PAのMO層を調製すると,表面がより厚くなり,細孔が増加した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  *皮膜 ,  実効値 ,  原子間力顕微鏡 ,  結晶粒度 ,  *スパッタリング ,  引張応力 ,  単一層 ,  細孔 ,  キャラクタリゼーション ,  *マグネトロンスパッタリング ,  走査電子顕微鏡
準シソーラス用語： 表面形態 ,  二重層 ,  DCマグネトロンスパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： magnetron sputtering ,  CIGS ,  Mo back electrode ,  sputtering pressure ,  morphology and microstructure

分類 (3件)： 光物性一般  (BM08010A) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (7件)： マグネトロンスパッタリング ,  調製 ,  Mo ,  皮膜 ,  形態 ,  スパッタリング圧力 ,  研究