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J-GLOBAL ID：201702263514455308   整理番号：17A0850633

調整可能な性能を有する新規ケイ素含有シクロオレフィン共重合体に基づく非多孔性超低誘電率材料【Powered by NICT】

Non-porous ultra low dielectric constant materials based on novel silicon-containing cycloolefin copolymers with tunable performance

著者 (6件)： Wang Bin (Tianjin Key Laboratory of Composite and Functional Materials, School of Materials Science and Engineering, Tianjin University, Tianjin 300072, China) ,  Shang Ying-Rui (Tianjin Key Laboratory of Composite and Functional Materials, School of Materials Science and Engineering, Tianjin University, Tianjin 300072, China) ,  Ma Zhe (Tianjin Key Laboratory of Composite and Functional Materials, School of Materials Science and Engineering, Tianjin University, Tianjin 300072, China) ,  Pan Li (Tianjin Key Laboratory of Composite and Functional Materials, School of Materials Science and Engineering, Tianjin University, Tianjin 300072, China) ,  Li Yue-Sheng (Tianjin Key Laboratory of Composite and Functional Materials, School of Materials Science and Engineering, Tianjin University, Tianjin 300072, China) ,  Li Yue-Sheng (Collaborative Innovation Center of Chemical Science and Engineering (Tianjin), Tianjin 300072, China)
資料名： Polymer  (Polymer)
巻： 116  ページ： 105-112  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0472B  ISSN： 0032-3861  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 調整可能な性能を有するpolycarbosilanes新規低誘電率(低k)は,本研究で報告した。これらの明確に定義された線形cyclopolycarbosilanesはジメチル(ピリジルアミド)ハフニウム/[Ph_3C][B(C_6F_5)4]/Al~i Bu_3触媒系を用いた3,3-ジメチル-3-シラ-1,5-ヘキサジエン(DMSHD)1,5 ヘキサジエン(1,5 HD)の共重合により調製した。は優れた誘電特性を示し,膜試料の誘電定数は全て2.5より低かった。誘電定数はDMSHD含有量の増加と共に徐々に減少し,ポリ(DMSHD)のための接近も1.8。添加では,共重合体の熱,表面及び機械的性質はC-Si結合を導入した後に有意に改善し,DMSHD単位の導入を調整することによって精巧に変調できた。高い熱安定性を有する疎水性高分子膜を溶液注型またはスピン-オン法によって調製することができた。ポリ(DMSHD)膜では多孔質と空洞であった固有低誘電率はそのユニークな構造に起因する可能性があることが分かった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 熱安定性 ,  触媒 ,  *共重合体 ,  *多孔性 ,  疎水性 ,  *共重合 ,  機械的性質 ,  高分子膜 ,  誘電性 ,  線形性 ,  注型 ,  *誘電率
準シソーラス用語： *低誘電率 ,  C-Si結合 ,  *low-k材料 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： ポリカルボシラン ,  低誘電率材料 ,  シクロpolymerization

分類 (2件)： 共重合  (CG04030D) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

タイトルに関連する用語 (4件)： ケイ素 ,  シクロオレフィン共重合体 ,  非多孔性 ,  低誘電率材料