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J-GLOBAL ID：201702263874007086   整理番号：17A0069192

BI(111)表面上のキラルなフタロシアニン銅分子のキラル特性を調べた。【JST・京大機械翻訳】

Chiral Features of the Achiral Copper Phthalocyanine on a Bi(111) Surface

著者 (9件)： Ye Juan (School of Physical Science and Technology, Southwest University) ,  Sun Kai (School of Physical Science and Technology, Southwest University) ,  Tao Minlong (School of Physical Science and Technology, Southwest University) ,  Tu Yubing (School of Physical Science and Technology, Southwest University) ,  Xie Zhengbo (School of Physical Science and Technology, Southwest University) ,  Wang Yali (School of Physical Science and Technology, Southwest University) ,  Hao Shaojie (School of Physical Science and Technology, Southwest University) ,  Xiao Huafang (School of Physical Science and Technology, Southwest University) ,  Wang Junzhong (School of Physical Science and Technology, Southwest University)
資料名： Wuli Huaxue Xuebao  (Wuli Huaxue Xuebao)
巻： 32  号： 10  ページ： 2593-2598  発行年： 2016年 
JST資料番号： W0391A  ISSN： 1000-6818  CODEN： WHXUEU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低温走査型トンネル顕微鏡(LT-STM)を用いて,BI(111)表面上のフタロシアニン銅(CUPC)の吸着とキラル自己集合構造を研究した。弱い分子-基板相互作用により,液体窒素温度(78K)でBI(111)表面上に吸着した単一CUPC分子が分子中心に沿って回転し,他の分子がクラスターを形成するまでになることを見出した。分子被覆率の増加と共に,CUPC分子は自己集合単分子層を形成した。高分解能STM画像により、キラルなCUPC分子はキラルな特徴が現れた。2つの相対的フタロシアニン基が屈曲した。被覆度が一つの分子層を超えると,フタロシアニン銅分子の吸着配向は「横」から「立位」姿勢にシフトした。フタロシアニン銅分子のキラル起源は二つの因子によるものであると考えられる。一つは分子-基板間の非対称電荷移動であり,もう一つは隣接分子間の非対称性のファンデルワールス力である。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 自己集合 ,  電荷移動 ,  被覆率 ,  *銅 ,  吸着 ,  van der Waals力 ,  低温 ,  立位 ,  高分解能 ,  走査型トンネル顕微鏡 ,  非対称性 ,  大環状化合物 ,  窒素複素環化合物 ,  架橋化合物 ,  芳香族縮合化合物
準シソーラス用語： 自己集合単分子膜 ,  液体窒素温度 ,  *キラリティ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： CuPc ,  Scanning tunneling microscopy ,  Semi-metallic Bi(111) ,  Chiral feature ,  Self-assembly

分類 (2件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (1件)： フタロシアニン

タイトルに関連する用語 (5件)： Bi ,  キラル ,  フタロシアニン ,  銅 ,  分子