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J-GLOBAL ID:201702264099313195   整理番号:17A0715950

100MeV/u重イオンのためのIMPマイクロビーム照射システムの設計【Powered by NICT】

Design of the IMP microbeam irradiation system for 100 MeV/u heavy ions
著者 (16件):
資料名:
巻: 33  号:ページ: 315-320  発行年: 2009年 
JST資料番号: C2118A  ISSN: 1674-1137  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 英語 (EN)
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中国科学院の現代物理学研究所で構築した最新の高エネルギー重イオンマイクロビーム照射システム。マイクロビームシステムは,完全な電流強度モードと単一イオンモードの両方で動作する。を事前定義した数のイオンを供給生物学と材料科学における研究のための予め選択された標的。このマイクロビームシステムの特徴は,高エネルギーと垂直照射である。スリットと組み合わせて,四重極集束システムは空間分解能を最適化するために設計した。対称色消しシステムは,ビームが下方とエネルギー分析器として同時にをもたらした。高勾配四重極三重項は最終的にからの10MeV/uの100MeV/uまでのエネルギー範囲内で真空チャンバ内で1μmにC6+イオンビームに焦点を当てた。本論文では,IMPマイクロビームシステムを詳細に記述した。このマイクロビームシステムのイオンビーム光学の系統的研究は,関連する異常と共に提示した。比較は,このマイクロビームの性能についてさらに考察するためにIMPマイクロビームシステムと他の既存システム間で最適化された。最適化初期ビームパラメータが高度の分解能と高度の打撃効率を示した。最後に,実験プラットホームを簡単に紹介した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
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電子ビーム,イオンビーム 
タイトルに関連する用語 (4件):
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