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J-GLOBAL ID:201702264408646829   整理番号:17A0834005

BiFeO_3薄膜におけるドメイン工学【Powered by NICT】

Domain engineering in BiFeO3 thin films
著者 (5件):
資料名:
巻: 17  号:ページ: 688-703  発行年: 2017年 
JST資料番号: W1579A  ISSN: 1567-1739  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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原子スケールで正確に制御して複合酸化物エピタキシャルヘテロ構造の合成における最近の進歩は,材料科学及び工学研究の新しい時代を開き,長い間研究されている材料からでも新しい物理現象の発見を可能にした。組成,欠陥,歪みおよび微細構造による高品質薄膜の精巧な制御は試料の品質の限界によってあいまいになったことを内因性および外因性特性を明確に区別することを可能にする。はビスマスフェライト(BiFeO_3)に関する最近の研究により例示した。菱面体構造を持つBiFeO_3の適度に低い対称性のために,分域および分域壁の構成を制御し,ドメイン工学は電気的および磁気的性質の基本的物理を理解だけでなく,太陽電池や光触媒のような新しい機能の誘導においても重要な役割を果たしている。本レビューでは,BiFeO_3の分域構造を制御するために種々の方法をBiFeO_3の物理的性質の改質について述べる。この方法論は新しい機能を設計するための他の低対称薄膜材料に拡張できる。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
強誘電体,反強誘電体,強弾性 
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
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