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J-GLOBAL ID：201702264432981386   整理番号：17A0325074

海水からのほう素イオンの処理方法のための窒素ドープグラフェン酸化物【Powered by NICT】

Nitrogen-doped graphene oxide for effectively removing boron ions from seawater

著者 (6件)： Chen Fuming (Pillar of Engineering Product Development, Singapore University of Technology and Design, Singapore 487372, Singapore. [e-mail]) ,  Guo Lu ,  Zhang Xiaoming ,  Leong Zhi Yi ,  Yang Shengyuan ,  Yang Hui Ying
資料名： Nanoscale  (Nanoscale)
巻： 9  号： 1  ページ： 326-333  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2323A  ISSN： 2040-3364  CODEN： NANOHL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水溶液中のホウ酸またはホウ酸塩の形で存在する元素ほう素。人体であるホウ素の量に非常に敏感であり,飲料水中のほう素汚染は我々の健康に悪影響を及ぼす。しかし,ホウ素はその小さいイオンサイズに起因して容易に除去されず,水処理システムに問題である。ここでは,窒素ドープグラフェン酸化物(N GO)を用いたホウ素を除去するための新しい方法を報告した。が得られた最大吸着容量は58.7mg/g~( 1)であり,これは最良の材料のNGO一つであるホウ素を吸着した。ほう素として5mg/L~( 1)を用いた実海水は試験のための飼料として使用され,また吸収容量は2.42mg/gまで~( 1)であることを示した。この高い吸着容量は主に窒素ドープサイトから生じる酸化グラフェンと増強された吸着の高表面積に分散されたヒドロキシル基の大量に起因していた。NGOがホウ素イオンで飽和した,酸処理によって容易に再生できた。著者らの提案した技術は,高い商業的価値を持ち,水処理産業に非常に有用と考えられる。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 飲用水 ,  *ホウ素 ,  水溶液 ,  酸処理 ,  吸着 ,  ホウ酸 ,  水処理 ,  表面積 ,  ホウ酸塩 ,  *海水 ,  ヒドロキシ基
準シソーラス用語： ヒドロキシル基 ,  吸収能力 ,  吸着容量 ,  *酸化グラフェン ,  *窒素ドーピング , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  燃料電池  (YB04040V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 海水 ,  ほう素イオン ,  処理方法 ,  窒素ドープ ,  グラフェン酸化物