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J-GLOBAL ID：201702265552378953   整理番号：17A0446028

DCマグネトロンスパッタリング法を用いたフレキシブルガラス基板上のAZO薄膜の堆積と特性評価【Powered by NICT】

Deposition and characterization of AZO thin films on flexible glass substrates using DC magnetron sputtering technique

著者 (7件)： Xia Yanping (School of Physics & Materials Science, Anhui University, Hefei 230601, PR China) ,  Wang Peihong (School of Physics & Materials Science, Anhui University, Hefei 230601, PR China) ,  Shi Shiwei (School of Physics & Materials Science, Anhui University, Hefei 230601, PR China) ,  Zhang Miao (School of Physics & Materials Science, Anhui University, Hefei 230601, PR China) ,  He Gang (School of Physics & Materials Science, Anhui University, Hefei 230601, PR China) ,  Lv Jianguo (School of Electronic & Information Engineering, Hefei Normal University, Hefei 230601, PR China) ,  Sun Zhaoqi (School of Physics & Materials Science, Anhui University, Hefei 230601, PR China)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 43  号： 5  ページ： 4536-4544  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Alドープ酸化亜鉛(AZO)薄膜を直流(DC)マグネトロンスパッタリングプロセスを用いて柔軟性超薄ガラス基板上に堆積した。形態とAZO膜のオプトエレクトロニック性能に及ぼすスパッタリングパワー,動作圧力と基板温度の影響を調べた。AZO膜に関する最適なスパッタリングパワー,動作圧力と基板温度は100W,0.9Paと150°Cであった。スパッタリング電力の増加又は減少さらに,動作圧力と基板温度はAZO膜の品質を低下させる。XRDパターンは,全てのスパッタしたままのAZO薄膜は<0002>方向に沿って成長する選択であることを示した。さらに,最大粒径,AZO膜の最良のミクロ構造を表す,最小応力値と一致した。SEM画像からみた表面は滑らかで緻密であることができる。抵抗率の最小値は1.784×10~ 3Ωcmであり,可視範囲ですべてのAZO膜の平均透過率は約80%であった。X線光電子分光スペクトルは,AZO膜中のAl元素の量は非常に小さいことを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： X線回折 ,  酸化亜鉛 ,  電気抵抗率 ,  *スパッタリング ,  アルミニウム ,  粒径 ,  直流 ,  透過率 ,  *キャラクタリゼーション ,  柔軟性 ,  X線光電子分光法 ,  ドーピング ,  基板温度
準シソーラス用語： *ガラス基板 ,  *DCマグネトロンスパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： AZO薄膜 ,  フレキシブルガラス基板 ,  スパッタリング電力 ,  作業圧力 ,  基板温度

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： DCマグネトロンスパッタリング ,  ガラス基板 ,  Azo ,  薄膜 ,  堆積 ,  特性評価