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J-GLOBAL ID:201702266064338213   整理番号:17A0831345

フェムト秒レーザ照射下での硫黄ドープシリコンの広帯域赤外応答【Powered by NICT】

Broadband infrared response of sulfur hyperdoped silicon under femtosecond laser irradiation
著者 (10件):
資料名:
巻: 196  ページ: 16-19  発行年: 2017年 
JST資料番号: E0935A  ISSN: 0167-577X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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広帯域赤外応答は,シリコンベース光検出器への応用の可能性のために大きな注目を集めている。フェムト秒レーザ照射下での硫黄超高濃度ドープシリコンの広帯域赤外応答を研究した。作製したPNフォトダイオードは,電磁スペクトルの近赤外および中赤外領域に幾つかの光応答スペクトルピークを示した。異なるサブバンドギャップ光応答特徴に対応する開始エネルギーはシリコンバンドギャップ内の既知の硫黄の活性エネルギー準位と一致した。この技術は低コスト広帯域シリコンベース検出器を作製するための有望なアプローチを提供するかもしれない。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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光物性一般  ,  ガラスの製造 

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