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J-GLOBAL ID:201702266676363831   整理番号:17A0471242

ガスセンシング応用のためのイオン照射によるSiC上のエピタキシャルグラフェンの表面官能化【Powered by NICT】

Surface functionalization of epitaxial graphene on SiC by ion irradiation for gas sensing application
著者 (14件):
資料名:
巻: 403  ページ: 707-716  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,炭化けい素上に成長させたエピタキシャルグラフェンの表面官能化は,それらのガス検知能力を研究するためにイオン照射によって行った。四種々のフルエンスで100MeV銀イオンを用いた高速重イオン照射は,グラフェンのガスセンシング能力の形態学的および構造変化とそれらの効果を調べるためにエピタキシャルグラフェンに実装した。センシング素子は,グラフェンを用いた第一電子応用の一つとして期待されている,それらの大部分が官能化表面を特定の機能を調整する。自験例では,官能化を達成するためのツールとして照射を研究した。エピタキシャルグラフェン層に関する形態学的および構造変化を,原子間力顕微鏡,Raman分光法,Ramanマッピングと反射率マッピングで調べた。照射したグラフェン層の表面形態は,グラフェン折畳み,ヒロック,及び最高フルエンス(2×10~13ions/cm~2)でしわの形成を示した。Ramanスペクトル分析は,グラフェン欠陥密度はフルエンスの増加と共に増加することを示したが,Ramanマッピングと反射率マッピングは,単層グラフェン被覆の減少であることを示した。試料はアンモニアと二酸化窒素ガスセンシング応用のために研究した。純粋及び照射した試料上に作製したセンサは最適フルエンスで最高のガス検知応答を示した。著者らの研究は,エピタキシャルグラフェンの制御された方法,ガスセンシング応用のためのだけでなく,他の応用に使用できる中の欠陥を導入するための新しい経路を提供し,電気化学,バイオセンシング,magnetosensingおよびスピントロニクス応用など。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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JSTが定めた文献の分類名称とコードです
その他の無機化合物の薄膜  ,  炭素とその化合物 

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