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J-GLOBAL ID：201702267109270495   整理番号：17A0353914

スクリーン印刷のためのドーピングヒュームドシリカスラリー【JST・京大機械翻訳】

SCREEN-PRINTABLE DOPED SILICON PASTE

著者 (4件)： Yang Xinyi (State Key Laboratory of Silicon Materials and Department of Materials Science,School of Materials Science and Engineering, Zhejiang University) ,  Gao Yu (State Key Laboratory of Silicon Materials and Department of Materials Science,School of Materials Science and Engineering, Zhejiang University) ,  Pi Xiaodong (State Key Laboratory of Silicon Materials and Department of Materials Science,School of Materials Science and Engineering, Zhejiang University) ,  Yang Deren (State Key Laboratory of Silicon Materials and Department of Materials Science,School of Materials Science and Engineering, Zhejiang University)
資料名： Taiyangneng Xuebao  (Taiyangneng Xuebao)
巻： 37  号： 11  ページ： 2973-2977  発行年： 2016年 
JST資料番号： W0629A  ISSN： 0254-0096  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： などナノ粒子をプラズマ法により合成し,シリコンナノ粒子に基づくスクリーン印刷用のドープを調製した。ヒュームドシリカスラリーの原子比が0.45以下で,リンの質量分率が6.32%以上で,ホウケイ原子比が0.90以上で,ホウ素の質量分率が1.75%以上のとき,スクリーン印刷法により50Ω/□以下のシート抵抗を達成できた。ドーピングヒュームドシリカスラリーが太陽電池の調製に有望であることを示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： シート抵抗 ,  プラズマ ,  リン ,  太陽電池 ,  *スクリーン印刷 ,  *ドーピング ,  ホウ素 ,  ナノ粒子
準シソーラス用語： 質量分率 ,  原子比 ,  シリコンナノ粒子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： silicon nanoparticles ,  silicon paste ,  screen printing ,  doping

分類 (2件)： 太陽電池  (NC03084O) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (1件)： スクリーン印刷