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J-GLOBAL ID：201702267322967580   整理番号：17A0407792

温和な条件下でのCu_2ZnSnS_4薄膜のゾル-ゲル合成【Powered by NICT】

Sol-gel synthesis of Cu₂ZnSnS₄ thin films under mild conditions

著者 (8件)： Guo Xinhua (Shenzhen Key Laboratory of Advanced Materials, Shenzhen Graduate School, Harbin Institute of Technology, Shenzhen 518055, PR China) ,  Guo Xinhua (Key Laboratory of Product Packaging and Logistics of Guangdong Higher Education Institutes, Zhuhai Campus, Jinan University, Zhuhai 519070, PR China) ,  Han Jiecai (Shenzhen Key Laboratory of Advanced Materials, Shenzhen Graduate School, Harbin Institute of Technology, Shenzhen 518055, PR China) ,  Han Jiecai (Center for Composite Materials, Harbin Institute of Technology, Harbin 150080, PR China) ,  Zhang Huayu (Shenzhen Key Laboratory of Advanced Materials, Shenzhen Graduate School, Harbin Institute of Technology, Shenzhen 518055, PR China) ,  Lv Xinguang (Key Laboratory of Product Packaging and Logistics of Guangdong Higher Education Institutes, Zhuhai Campus, Jinan University, Zhuhai 519070, PR China) ,  Yan Jianwei (Key Laboratory of Product Packaging and Logistics of Guangdong Higher Education Institutes, Zhuhai Campus, Jinan University, Zhuhai 519070, PR China) ,  Sun Rui (Shenzhen Key Laboratory of Advanced Materials, Shenzhen Graduate School, Harbin Institute of Technology, Shenzhen 518055, PR China)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 697  ページ： 361-366  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 薄膜太陽電池の吸収層材料を製造するために,Cu-Zn-Sn硫化Cu_2ZnSnS_4(CZTS)薄膜は,複数のスピンコート層中のガラス基板上にそれを適用することによって,簡単,安価,環境に優しい方法でゾル-ゲル四成分溶液から調製した。その後,得られた膜を硫黄蒸気なし循環空気雰囲気下での乾燥オーブンで製造された熱的にした。得られたX線回折ピークは厳密にCZTS(JCPDS 26 0575)回折パターンと一致し,製造したコーティングは黄錫亜鉛鉱構造によって特性化したことを示した。得られた膜の計算した光学バンドギャップエネルギーは1.45eVであり,これは文献値とよく一致し,このようにして代替候補吸収材料としての利用可能性を示唆した。得られたSEM画像は大きな球状粒子を用いて合成した密に充填したCZTS膜はコンパクトで均一であることを示した。従って著者らは本研究で初めて明らかにほぼ純粋なCZTS薄膜を一段階ゾル-ゲル法,比較的低い加熱温度と非真空条件で非毒性硫化に対応することを通して溶液から得ることができることを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 光学ギャップ ,  加熱温度 ,  *スズ ,  X線回折 ,  *薄膜 ,  硫化 ,  *ゲル ,  キャラクタリゼーション ,  硫黄 ,  *ゾル-ゲル法
準シソーラス用語： CZTS ,  SEM画像 ,  *ゾル-ゲル ,  ガラス基板 ,  薄膜太陽電池 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： ケステライトCu_2ZnSnS_4 ,  薄膜 ,  ゾル-ゲル過程 ,  X線回折 ,  走査型電子顕微鏡観察 ,  SEM

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (2件)： 薄膜 ,  ゾル-ゲル合成