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J-GLOBAL ID：201702269610676936   整理番号：17A0038156

メカノ化学,マイクロ波及び古典的方法を用いて水熱的に修飾したシリカキセロ-及びヒドロゲルの表面特性の比較

Comparison of surface properties of silica xero- and hydrogels hydrothermally modified using mechanochemical, microwave and classical methods

著者 (3件)： Skubiszewska-Zieba J. (Faculty of Chemistry, Maria Curie-Sklodowska University, Maria Curie-Sklodowska Sq. 3, 20-031 Lublin, Poland) ,  Khalameida S. (Institute for Sorption and Problems of Endoecology, National Academy of Science of Ukraine, 13 General Naumov Str., 03164 Kiev, Ukraine) ,  Sydorchuk V. (Institute for Sorption and Problems of Endoecology, National Academy of Science of Ukraine, 13 General Naumov Str., 03164 Kiev, Ukraine)
資料名： Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects  (Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects)
巻： 504  ページ： 139-153  発行年： 2016年09月05日 
JST資料番号： A0539B  ISSN： 0927-7757  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 古典的(HTT),マイクロ波(MWT)及びメカノ化学(MChT)エネルギーを用いて,異なる細孔構造と表面化学のいくつかのシリカを水熱的に調製した。出発物質は湿潤ゲル(ヒドロゲル)あるいはキセロゲル(乾燥ゲル)の形態のシリカであった。調製したシリカ試料の構造的及び化学的パラメータに対する出発シリカの形態,水の濃度,温度,継続時間及び回転速度の値のようなパラメータの影響を調べた。窒素の低温吸着-脱着,TG/DTG分析,走査電子顕微鏡(SEM)及びFTIR分光法を用いて,調製した試料の特徴を明らかにした。TG/DTGデータを用いて表面水酸基の濃度を決定した。修飾した初期シリカの形態及び系に供給する一種の熱エネルギーに依存して,異なる細孔構造,物理的に吸着した水の種々の濃度,及び表面水酸基(δ^OH)により,得られたシリカ試料の特徴を明らかにした。新しい型,すなわち,湿式製粉ゲルとキセロゲルの間のさらなる開放気孔率の生成による比表面積と総細孔容積の増加を立証した。結果として,高い比表面積と均一な細孔サイズ分布を持つメソポーラスシリカを調製した。ヒドロゲルの形態で修飾した試料に対して,δ^OH値は約3OH/nm²であるが,これは完全に水酸化したシリカに対する値(4.6OH/nm²)よりも低い。したがって,キセロゲルの形態で修飾した試料の場合のみ,球内の水は加熱中に放出される。スペクトルに現れた3260~3280と3170~3185cm^-1における以前には記述されなかった新しいIR吸収バンドは,それに応じてミクロ細孔に配列した水分子の振動と球接触の場所に仮に帰することができる。水分子の変形振動に帰属される1645~1655cm^-1に対しても同様の依存性を観測した。SEM法を用いて得た画像は,調べたシリカのモルフォロジーをよく反映している。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *メカノ化学 ,  *水熱合成 ,  *マイクロ波加熱 ,  *固相反応 ,  *ヒドロゲル ,  *キセロゲル ,  摩擦化学反応 ,  細孔構造 ,  界面化学 ,  シリカゲル ,  構造パラメータ ,  温度 ,  濃度 ,  継続時間 ,  回転数 ,  化学的性質 ,  脱着 ,  示差熱重量分析 ,  FTIR分光法 ,  エネルギー ,  比表面積 ,  体積 ,  細孔径分布 ,  二酸化ケイ素 ,  多孔質体 ,  吸収バンド ,  変角振動 ,  走査電子顕微鏡 ,  モルフォロジー ,  吸着平衡 ,  窒素 ,  気孔 ,  ヒドロキシ基
準シソーラス用語： ヒドロキシル基 ,  DTG【分析】 ,  TG【分析】 ,  サイズ分布 ,  *マイクロ波支援水熱合成 ,  *メカノ化学反応 ,  メソポーラスシリカ ,  回転速度 ,  開放気孔率 ,  *乾燥ゲル ,  細孔容積 ,  水酸基 ,  窒素吸着 ,  熱エネルギー ,  表面化学

著者キーワード (5件)： Silica gels ,  Hydrothermal treatment ,  Microwaves ,  Mechanochemistry ,  Porous structure

分類 (1件)： 固体の表面構造一般  (BK15010E)

タイトルに関連する用語 (6件)： メカノ化学 ,  マイクロ波 ,  水 ,  修飾 ,  ヒドロゲル ,  表面特性