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J-GLOBAL ID：201702269772433679   整理番号：17A0412380

高度に還元されたTiO_2アナターゼ薄膜の特性に及ぼすCoと(Co,Mo)ドーピング効果【Powered by NICT】

Co and (Co,Mo) doping effects on the properties of highly reduced TiO₂ anatase thin films

著者 (8件)： Silvestre A.J. (Area Departamental de Fisica, ISEL - Instituto Superior de Engenharia de Lisboa, Instituto Politecnico de Lisboa, 1959-007 Lisboa, Portugal) ,  Silvestre A.J. (Centro de Fisica e Engenharia de Materiais Avancados (CeFEMA), Universidade de Lisboa, 1049-001 Lisboa, Portugal) ,  Rout S. (Departamento de Fisica, Faculdade de Ciencias, Universidade de Lisboa, 1749-016 Lisboa, Portugal) ,  Dalui S. (Departamento de Fisica, Faculdade de Ciencias, Universidade de Lisboa, 1749-016 Lisboa, Portugal) ,  Pereira L.C.J. (Centro de Ciencias e Tecnologias Nucleares (C2TN), Instituto Superior Tecnico, 2695-066 Bobadela LRS, Portugal) ,  Viana A.S. (Centro de Quimica e Bioquimica, Faculdade de Ciencias, Universidade de Lisboa, 1749-016 Lisboa, Portugal) ,  Conde O. (Centro de Fisica e Engenharia de Materiais Avancados (CeFEMA), Universidade de Lisboa, 1049-001 Lisboa, Portugal) ,  Conde O. (Departamento de Fisica, Faculdade de Ciencias, Universidade de Lisboa, 1749-016 Lisboa, Portugal)
資料名： Current Applied Physics  (Current Applied Physics)
巻： 17  号： 2  ページ： 174-180  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1579A  ISSN： 1567-1739  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究は高度な還元性条件におけるパルスレーザ蒸着により(0001)サファイア基板上に成長させたCo:TiO_2と(Co,Mo):TiO_2アナターゼ薄膜の構造的,光学的,電気的及び磁気的性質と350°Cの低温で報告した。アンドープTiO_2~-Ti_0 0.95Co_0 0.05O_2~-,Ti_0 0.94Co_0 0.05Mo_0 0.01O_2~およびTi_0 0.92Co_0 0.05Mo_0 0.03O_2~の公称組成をドープした膜を研究した。それらは全て同じ微細構造を示し,0.5nm以下の滑らかな表面とRMS粗さ値を示した。ドープした膜の光学バンドギャップエネルギーは,ドープしていないTiO_2~-の推定に比べて赤方偏移した。バンドギャップ間の相関と膜のUrbachエネルギーを検討した。全ての試料はn型伝導の半導体挙動を示した。Co:TiO_2試料は1.3μ_/Coの飽和磁化,123S cm~ 1の高い電気伝導率と室温でのキャリア密度1.88×10~21cm~ 3の強磁性体である。キャリアはMoの共ドーピングによる添加した場合,Co:TiO_2系の強磁性秩序が抑制された。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 赤方偏移 ,  パルスレーザ蒸着 ,  電気伝導率 ,  *ドーピング ,  *モリブデン ,  バンドギャップ ,  キャリア密度 ,  強磁性体 ,  光学ギャップ ,  飽和磁化 ,  *アナターゼ
準シソーラス用語： 強磁性秩序 ,  共ドーピング ,  サファイア基板 ,  *ドーピング効果 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： パルスレーザ蒸着 ,  CoドープTiO_2~-薄膜 ,  Mo同時ドーピング ,  酸化物をベースとしたDMS

分類 (3件)： 誘電体一般  (BM05010F) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (6件)： 還元 ,  アナターゼ ,  薄膜 ,  CO ,  Mo ,  ドーピング効果