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J-GLOBAL ID：201702270025359885   整理番号：17A0124330

Crドープ(Bi,Sb)2Te3量子異常H all膜のAlO_x/LiF複合材料保護層【Powered by NICT】

AlO_x/LiF composite protection layer for Cr-doped (Bi,Sb)2Te3 quantum anomalous Hall films

著者 (10件)： Ou Yunbo (Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences) ,  Feng Yang (Department of Physics, Tsinghua University) ,  Feng Xiao (Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences) ,  Hao Zhenqi (Department of Physics, Tsinghua University) ,  Zhang Liguo (Department of Physics, Tsinghua University) ,  Liu Chang (Department of Physics, Tsinghua University) ,  Wang Yayu (Department of Physics, Tsinghua University) ,  He Ke (Department of Physics, Tsinghua University) ,  Ma Xucun (Department of Physics, Tsinghua University) ,  Xue Qikun (Department of Physics, Tsinghua University)
資料名： Chinese Physics B  (Chinese Physics B)
巻： 25  号： 8  ページ： 087307-1-087307-05  発行年： 2016年 
JST資料番号： W1539A  ISSN： 1674-1056  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： LiFとAlO_xキャッピング層の組合せを持つCr添加(Bi,Sb)2Te_3トポロジカル絶縁体膜を保護することにより,ロバストな量子異常H all試料を実現した。AlO_x/LiF複合キャッピング層はCrドープ(Bi,Sb)2Te_3膜の量子異常H all状態を良好に保つと周囲条件により誘導された分解からそれらを効果的に抑制する。経過は量子異常H all系に基づくヘテロ構造及び素子における量子現象の実現に向けて重要なステップである。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ドーピング ,  ロバスト性 ,  *複合材料 ,  トポロジカル絶縁体
準シソーラス用語： ヘテロ構造 ,  *保護層 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 量子異常H all効果 ,  AlO_x ,  LiF ,  保護層

分類 (9件)： 音声処理  (JE05000E) ,  光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  人工知能  (JE08000Z) ,  ロボットの運動・制御  (IC04012J) ,  発光素子  (NC03082G) ,  表面の電子構造  (BM02080J) ,  図形・画像処理一般  (JE04010I) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  電子分光スペクトル  (BM09060K)

タイトルに関連する用語 (9件)： Cr ,  ドープ ,  Bi ,  Sb ,  量子異常 ,  ALL ,  LIF ,  複合材料 ,  保護層