文献

J-GLOBAL ID：201702270361556320   整理番号：17A0754158

高出力パルスマグネトロンスパッタリング(HPPMS)により作製したTiN膜の性質に及ぼす磁場強度と蒸着圧力の影響【Powered by NICT】

Effects of magnetic field strength and deposition pressure on the properties of TiN films produced by high power pulsed magnetron sputtering (HPPMS)

著者 (10件)： Wu Jian (Key Laboratory of Advanced Technologies of Materials, Ministry of Education of China, School of Materials Science and Engineering, Southwest Jiaotong University, Chengdu 610031, China) ,  Wu B.H. (Key Laboratory of Advanced Technologies of Materials, Ministry of Education of China, School of Materials Science and Engineering, Southwest Jiaotong University, Chengdu 610031, China) ,  Ma D.L. (Key Laboratory of Advanced Technologies of Materials, Ministry of Education of China, School of Materials Science and Engineering, Southwest Jiaotong University, Chengdu 610031, China) ,  Xie D. (School of Physical Science and Technology, Southwest Jiaotong University, Chengdu 610031, China) ,  Wu Y.P. (State Key Laboratory of Physical Chemistry of Surface, Jiangyou, Sichuan 621700, China) ,  Chen C.Z (Key Laboratory of Advanced Technologies of Materials, Ministry of Education of China, School of Materials Science and Engineering, Southwest Jiaotong University, Chengdu 610031, China) ,  Li Y.T. (Key Laboratory of Advanced Technologies of Materials, Ministry of Education of China, School of Materials Science and Engineering, Southwest Jiaotong University, Chengdu 610031, China) ,  Sun H. (Key Laboratory of Advanced Technologies of Materials, Ministry of Education of China, School of Materials Science and Engineering, Southwest Jiaotong University, Chengdu 610031, China) ,  Huang N. (Key Laboratory of Advanced Technologies of Materials, Ministry of Education of China, School of Materials Science and Engineering, Southwest Jiaotong University, Chengdu 610031, China) ,  Leng Y.X. (Key Laboratory of Advanced Technologies of Materials, Ministry of Education of China, School of Materials Science and Engineering, Southwest Jiaotong University, Chengdu 610031, China)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 315  ページ： 258-267  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高出力パルスマグネトロンスパッタリング(HPPMS)により堆積した窒化チタン(TiN)膜の欠点は,低い蒸着速度(従来のマグネトロンスパッタリングと比較して)と高い残留応力である。多くの方法がこれらの問題に対処するために使用されてきた。本研究では,TiN膜を種々の磁場強度B(40と115mT)と堆積圧力P(0.2年,1.0年,および2.0Pa)でHPPMSにより堆積した。膜堆積速度,残留応力,及び機械的性質に及ぼすBとPの影響も調べた。HPPMS放電におけるプラズマを発光分光法で診断した。より高いB(115mT)でターゲットの周りの強い磁気閉込めと逆引力のために,P_は2.0Paであった場合,より低いB(40mT)は,基板のTi~+/Ti比を有意に増加させた,~3倍,および堆積速度の大きな増加,特に~5.5倍した。低B(40mT)で基板の前における高Ti~+/Ti比は,イオン衝撃の程度を増加させ,TiN膜の優先と強い(111)配向,膜硬度,およびより優れた付着強度をもたらした。さらに,P_の増加はより衝突と金属原子とイオンの強い散乱,残留応力(8.5から0.8GPaまでの40mT B_)の急激な減少とTiN膜の付着強さの有意な増加を引き起こした。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *蒸着 ,  堆積速度 ,  発光分光法 ,  付着強さ ,  機械的性質 ,  磁場閉込め ,  *マグネトロンスパッタリング ,  イオン ,  イオン衝突 ,  残留応力 ,  *磁場
準シソーラス用語： 蒸着速度 ,  *磁場強度 ,  *窒化チタン ,  *高出力 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 高出力パルスマグネトロンスパッタリング ,  磁場 ,  蒸着圧 ,  窒化チタン ,  堆積速度 ,  フィルム特性

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (8件)： 高出力 ,  パルス ,  マグネトロンスパッタリング ,  作製 ,  TiN膜 ,  性質 ,  磁場強度 ,  蒸着