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J-GLOBAL ID:201702271194018674   整理番号:17A0302087

シリコン-オン-絶縁体ウエハ上の高反射率高コントラスト格子集束反射器【Powered by NICT】

High-reflectivity high-contrast grating focusing reflector on silicon-on-insulator wafer
著者 (6件):
資料名:
巻: 25  号: 11  ページ: 114213_01-114213_05  発行年: 2016年 
JST資料番号: W1539A  ISSN: 1674-1056  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 英語 (EN)
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反射光と高反射率の位相面制御を提供する高コントラスト格子(H CG)集束反射鏡を提案し,作製した。このカテゴリー構造を設計するための基本設計規則を詳細に示した。焦点距離11.86mm,反射率の0.8320の1550nm TM偏光した入射光は,実験で得られた。1530nmから1580nmまで作製したHCGsの波長依存性も試験した。試験結果は,焦点距離は11.81 12mmの範囲にあり,設計された焦点距離15mmに近いであることを示した。反射率は50nmの帯域幅内で0.56以上であった。11.86mmの距離では,光が最高濃度であり,入射ビームのサイズよりはるかに小さい円形スポットに焦点を当てた。反射光ビームのFWHMが120nmまで減少すると,強度は1.18に増加した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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光導波路,光ファイバ,繊維光学  ,  光デバイス一般 

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