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J-GLOBAL ID：201702271824614997   整理番号：17A0448329

Er~3+イオンにより活性化されたSiO_2~-P_2O_5 HfO_2~-Al_2O_3 Na_2Oガラスからバルク試料rfスパッタリングにより作製した平面導波路【Powered by NICT】

SiO₂-P₂O₅-HfO₂-Al₂O₃-Na₂O glasses activated by Er³⁺ ions: From bulk sample to planar waveguide fabricated by rf-sputtering

著者 (21件)： Chiasera A. (IFN - CNR CSMFO Lab. & FBK CMM, Via alla Cascata 56/C, Povo, Trento, 38123, Italy) ,  Vasilchenko I. (IFN - CNR CSMFO Lab. & FBK CMM, Via alla Cascata 56/C, Povo, Trento, 38123, Italy) ,  Vasilchenko I. (Dipartimento di Fisica, Universita di Trento, Via Sommarive 14, Povo, Trento, 38123, Italy) ,  Dorosz D. (Bialystok University of Technology, Wiejska 45D Street, Bialystok, 15-351, Poland) ,  Cotti M. (IFN - CNR CSMFO Lab. & FBK CMM, Via alla Cascata 56/C, Povo, Trento, 38123, Italy) ,  Cotti M. (Politecnico di Milano, p.zza Leonardo da Vinci 32, Milano, 20133, Italy) ,  Varas S. (IFN - CNR CSMFO Lab. & FBK CMM, Via alla Cascata 56/C, Povo, Trento, 38123, Italy) ,  Iacob E. (FBK CMM-MNF, Via Sommarive 18, Povo, Trento, 38123, Italy) ,  Speranza G. (IFN - CNR CSMFO Lab. & FBK CMM, Via alla Cascata 56/C, Povo, Trento, 38123, Italy) ,  Speranza G. (FBK CMM FMPS Unit, Via Sommarive 18, Povo, Trento, 38123, Italy) ,  Vaccari A. (FBK CMM-ARES Unit, Via Sommarive 18, Povo, Trento, 38123, Italy) ,  Valligatla S. (IFN - CNR CSMFO Lab. & FBK CMM, Via alla Cascata 56/C, Povo, Trento, 38123, Italy) ,  Valligatla S. (Dipartimento di Fisica, Universita di Trento, Via Sommarive 14, Povo, Trento, 38123, Italy) ,  Valligatla S. (School of Physics, University of Hyderabad, Hyderabad, 500046, India) ,  Zur L. (Centro di Studi e Ricerche Enrico Fermi, P.zza Viminale 1, Roma, 00184, Italy) ,  Zur L. (IFN - CNR CSMFO Lab. & FBK CMM, Via alla Cascata 56/C, Povo, Trento, 38123, Italy) ,  Lukowiak A. (Institute of Low Temperature and Structure Research, PAS, 2 Okolna St., Wroclaw, 50-422, Poland) ,  Righini G.C. (Centro di Studi e Ricerche Enrico Fermi, P.zza Viminale 1, Roma, 00184, Italy) ,  Righini G.C. (IFAC - CNR, MiPLab, Via Madonna del Piano 10, Sesto Fiorentino, 50019, Italy) ,  Ferrari M. (IFN - CNR CSMFO Lab. & FBK CMM, Via alla Cascata 56/C, Povo, Trento, 38123, Italy) ,  Ferrari M. (Centro di Studi e Ricerche Enrico Fermi, P.zza Viminale 1, Roma, 00184, Italy)
資料名： Optical Materials  (Optical Materials)
巻： 63  ページ： 153-157  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0468A  ISSN： 0925-3467  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 大量Er~3+活性化P_2O_5 SiO_2~-Al_2O_3 Na_2Oガラスから出発してマルチターゲットrfスパッタリング法で作製した0.4Er~3+をドープした90.7SiO_2 4.4P_2O_5 2.3HfO_2 1.7Al_2O_3 0.7Na_2O平面導波路。光学パラメータを632.8nm,1319nm,1542nmで動作するm線装置により測定した。導波路組成はエネルギー分散型X線分光法とその形態原子間力顕微鏡による解析で調べた。導波路は赤外の減衰係数は0.2dB/cmの1319と1542nmで単一伝搬モードを示した。Er~3+イオンの~4I_13/2→~4I_15/2遷移,28.5nm帯域幅の発光は514.5nmでTE_0モード励起で観察された。Er~3+活性化親P_2O_5 SiO_2~-Al_2O_3 Na_2Oガラスの光学的および分光学的特徴についても検討した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 減衰定数 ,  二酸化ケイ素 ,  エネルギー散逸 ,  *ガラス ,  帯域幅 ,  ドーピング ,  X線分光法 ,  *スパッタリング ,  励起 ,  原子間力顕微鏡 ,  *平面導波路 ,  *導波路
準シソーラス用語： 分光学 ,  光学パラメータ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (8件)： 平面導波路 ,  rfスパッタリング ,  Hafnia ,  シリカ ,  りん酸塩 ,  エルビウム ,  光学的性質 ,  ルミネセンス

分類 (1件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

タイトルに関連する用語 (8件)： イオン ,  活性化 ,  ガラス ,  バルク ,  試料 ,  RFスパッタリング ,  作製 ,  平面導波路