文献

J-GLOBAL ID：201702273960897521   整理番号：17A0470501

相乗的光触媒反応のための新しいZスキームBiPO_4 Bi_2O_2(OH)(NO_3)ヘテロ接合構造ハイブリッド【Powered by NICT】

A novel Z-scheme BiPO₄-Bi₂O₂(OH)(NO₃) heterojunction structured hybrid for synergistic photocatalysis

著者 (5件)： Liu Guoshuai (State Key Laboratory of Urban Water Resource and Environment, Harbin Institute of Technology, Harbin 150090, PR China) ,  You Shijie (State Key Laboratory of Urban Water Resource and Environment, Harbin Institute of Technology, Harbin 150090, PR China) ,  Huang Hong (State Key Laboratory of Urban Water Resource and Environment, Harbin Institute of Technology, Harbin 150090, PR China) ,  Ma Ming (State Key Laboratory of Urban Water Resource and Environment, Harbin Institute of Technology, Harbin 150090, PR China) ,  Ren Nanqi (State Key Laboratory of Urban Water Resource and Environment, Harbin Institute of Technology, Harbin 150090, PR China)
資料名： Chemosphere  (Chemosphere)
巻： 171  ページ： 702-709  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0843A  ISSN： 0045-6535  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光触媒は水処理における普及されていると,その工学的応用は効果的な光触媒材料の開発を呼び起こす。は有機汚染物質の分解に有効であることを光触媒を開発するために,新しい直接固体ZスキームBiPO_4 Bi_2O_2(OH)(NO_3)(BPO BHN)ヘテロ接合構造のハイブリッドを作製した。結果はOHラジカルを生成するBPO BHNの増強された光触媒活性を示し,拡散反射分光法(DRS),電子スピン共鳴共鳴(ESR),光電気化学的測定および理論的計算の結果に従った。BPO BHNは紫外光下で2,4 ジクロロフェノール(2,4 DCP)の分解を大きく促進することを示した。擬一次反応速度論からみたBPO BHNで得られた0.050分~ 1の見かけの分解速度定数(k_app)は,個々のBPO(k_app=0.015min~ 1)とBHN(k_app=0.004min~ 1)のそれの約3.33と12.5倍であった。直接固体Zスキームヘテロ接合構造,UV光収穫,正孔/電子分離と酸化能力を改善するための有利であることを形成するとき,これはBPO及びBHNの実質的に相乗的光触媒作用を示唆している。特に,新しい非線形光学(NLO)材料として,BHNは,価電子帯における高電位C~+面によるBPOから光電子を捕捉するその特異な能力のためのZスキーム構造の形成において重要な役割を果たす。本研究では,水中の有機汚染物質の分解のためのより効果的な光触媒を開発するために概念実証戦略を提供した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： ESR【磁気共鳴】 ,  *ヘテロ接合 ,  紫外線 ,  ヒドロキシルラジカル ,  共鳴 ,  *光触媒 ,  光電子 ,  *光触媒反応 ,  価電子バンド ,  正孔
準シソーラス用語： 分解速度 ,  一次反応速度論 ,  拡散反射分光法 ,  光触媒活性 ,  有機汚染物質 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： 展望 ,  直接固体Zスキームヘテロ接合構造 ,  Degradation

分類 (1件)： その他の汚染原因物質  (SB05040W)

タイトルに関連する用語 (3件)： 光触媒反応 ,  スキーム ,  ヘテロ接合