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J-GLOBAL ID：201702274577426264   整理番号：17A0195222

原子層堆積法により調製したマイクロチャネルプレートの性能を調べた。【JST・京大機械翻訳】

Properties of microchannel plate emission layer deposited by atomic layer deposition

著者 (6件)： Cong Xiaoqing (North Night Vision Tech. Corp. Ltd.) ,  Qiu Xiangbiao (North Night Vision Tech. Corp. Ltd.) ,  Sun Jianning (North Night Vision Tech. Corp. Ltd.) ,  Li Jingwen (North Night Vision Tech. Corp. Ltd.) ,  Zhang Zhiyong (North Night Vision Tech. Corp. Ltd.) ,  Wang Jian (North Night Vision Tech. Corp. Ltd.)
資料名： Hongwai yu Jiguang Gongcheng  (Hongwai yu Jiguang Gongcheng)
巻： 45  号： 9  ページ： 0916002-1-0916002-6  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2521A  ISSN： 1007-2276  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： マイクロチャネルプレートの開発と改良により,従来の技術の性能を改善することによって,マイクロチャネルプレートの性能を向上させるための新しい技術を開発した。ナノ薄膜材料の発展とその調製技術の成熟はマイクロチャネルプレートの発展にチャンスを提供し、原子層堆積技術を利用してチャンネル内壁に一酸化アルミニウムナノ薄膜を堆積し、二次電子発射機能層として、チャネル内壁の二次電子放出能力を増強できる。その結果,マイクロチャネルプレートの利得性能が向上する。原子層蒸着プロセスパラメータを最適化することにより,マイクロチャネルプレートのチャネル内に均一な厚さのアルミナ膜を堆積させることができた。結果により,マイクロチャネルの利得は,酸化アルミニウムの厚さの変化とともに変化し,そして,酸化アルミニウムの厚さが,60V/Sのとき,800Vのバイアス電圧は,約,に達し,そして,それは,通常のマイクロチャネルの利得の約12倍であった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： アルミナ ,  チャネル ,  利得 ,  *マイクロチャネル ,  酸化アルミニウム ,  プロセスパラメータ ,  *マイクロチャネルプレート ,  最適化 ,  二次電子放出 ,  ナノシート
準シソーラス用語： バイアス電圧 ,  二次電子 ,  ナノ薄膜 ,  *ALCVD , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： microchannel plate ,  atomic layer deposition ,  alumina nano films ,  SEE layer

分類 (1件)： 放射線検出・検出器  (AD08020J)

タイトルに関連する用語 (3件)： 原子層堆積法 ,  調製 ,  マイクロチャネルプレート