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J-GLOBAL ID：201702275190530891   整理番号：17A0850837

XPS,AESおよびLEIS,UHV条件下でのスパッタ深さプロファイリングのための問題により研究した金属表面上の酸素蓄積【Powered by NICT】

Oxygen accumulation on metal surfaces investigated by XPS, AES and LEIS, an issue for sputter depth profiling under UHV conditions

著者 (14件)： Steinberger R. (Center for Surface and Nanoanalytics, Johannes Kepler University Linz, Altenberger Strasse 69, 4040 Linz, Austria) ,  Celedon C.E. (Institut fuer Experimentalphysik, Abteilung fuer Atom- und Oberflaechenphysik, Johannes Kepler University Linz, Altenberger Strasse 69, 4040 Linz, Austria) ,  Celedon C.E. (Departamento de Fisica, Universidad Tecnica Federico Santa Maria, Valaparaiso, Casilla 110-V, Chile) ,  Bruckner B. (Institut fuer Experimentalphysik, Abteilung fuer Atom- und Oberflaechenphysik, Johannes Kepler University Linz, Altenberger Strasse 69, 4040 Linz, Austria) ,  Roth D. (Institut fuer Experimentalphysik, Abteilung fuer Atom- und Oberflaechenphysik, Johannes Kepler University Linz, Altenberger Strasse 69, 4040 Linz, Austria) ,  Duchoslav J. (Center for Surface and Nanoanalytics, Johannes Kepler University Linz, Altenberger Strasse 69, 4040 Linz, Austria) ,  Arndt M. (voestalpine Stahl GmbH, voestalpine-Strasse 3, 4031 Linz, Austria) ,  Kuernsteiner P. (Center for Surface and Nanoanalytics, Johannes Kepler University Linz, Altenberger Strasse 69, 4040 Linz, Austria) ,  Steck T. (voestalpine Stahl GmbH, voestalpine-Strasse 3, 4031 Linz, Austria) ,  Faderl J. (voestalpine Stahl GmbH, voestalpine-Strasse 3, 4031 Linz, Austria) ,  Riener C.K. (voestalpine Stahl GmbH, voestalpine-Strasse 3, 4031 Linz, Austria) ,  Angeli G. (voestalpine Stahl GmbH, voestalpine-Strasse 3, 4031 Linz, Austria) ,  Bauer P. (Institut fuer Experimentalphysik, Abteilung fuer Atom- und Oberflaechenphysik, Johannes Kepler University Linz, Altenberger Strasse 69, 4040 Linz, Austria) ,  Stifter D. (Center for Surface and Nanoanalytics, Johannes Kepler University Linz, Altenberger Strasse 69, 4040 Linz, Austria)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 411  ページ： 189-196  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スパッタイオンエッチングと組み合わせた表面高感度分析法を用いて深さプロファイリングは,徹底した材料研究のための一般的な方法である,汚染のない清浄な表面が生じた。,大部分は超高真空(UHV)条件下で行った表面分析の研究が,そのような超高真空環境の清浄度は,通常,過大評価されている。結果として,本研究では,種々の表面分析法のための金属表面(Fe,Mg,Al,CrおよびZn)に及ぼす残留ガスの原理で知られている影響を明らかにし,X線光電子分光法(XPS),Auger電子分光法(AES)と低エネルギーイオン散乱(LEIS)のような。近代的な最新の装置を用いた研究は,取得中に超高真空中で金属表面の異なる挙動を示した:(i)Znの影響は,長時間後でも,(ii)Feの酸素のみ吸着,Crが僅かで遅い変化,および(iii)AlおよびMgの酸化物形成を伴う吸着。異なる対策の効率を試験し,得られた知見は最終的に正確な深さプロファイル,データ収集は迷惑方法で実行した場合,重大なアーチファクト前に示したを得るためにZnMgAl被覆鋼に用いた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： Auger分光法 ,  マグネシウム ,  亜鉛 ,  *深さプロフィル ,  低速イオン散乱 ,  超高真空 ,  酸化物 ,  残留ガス ,  表面分析 ,  吸着 ,  X線光電子分光法 ,  *酸素 ,  X線光電子スペクトル ,  クロム ,  清浄度
準シソーラス用語： *金属表面 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 金属表面 ,  XPS ,  AES ,  LEIS ,  酸素蓄積 ,  残留ガス

分類 (1件)： 質量分析  (CC03013N)

タイトルに関連する用語 (9件)： XPS ,  AES ,  UHV ,  スパッタ ,  深さプロファイリング ,  研究 ,  金属表面 ,  酸素 ,  蓄積