文献

J-GLOBAL ID：201702275894104126   整理番号：17A0809241

エキシマレーザプロセスに基づくX線光マスクを作製した。【JST・京大機械翻訳】

X-Ray Photomask Fabricated by Excimer Laser Process

著者 (2件)： Chen Shaojun (Research Institute of Micro/Nano Science and Technology; Shanghai Jiao Tong University) ,  Li Yigui (Research Institute of Micro/Nano Science and Technology; Shanghai Jiao Tong University)
資料名： Bandaoti Jishu  (Bandaoti Jishu)
巻： 35  号： 4  ページ： 349-351  発行年： 2010年 
JST資料番号： C2378A  ISSN： 1003-353X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： LIGAプロセスは三次元微細構造の製造に応用できる微細加工技術であるが、製造プロセスは複雑で、コストが高い。商用のマイクロシステムの製造コスト問題を解決するために、AU薄膜上にエキシマレーザーで書いた方法でマスクを作成し、これにより、雛型を迅速に獲得できるだけでなく、制作したマスクのコストも低下させることができる。本論文では,電子ビームに基づくマスクと準分子レーザに基づくマスクの2つの方法を解析し,その結果,エキシマレーザにより作製したマスクがコストと時間において利点を持つことを示した。準分子レーザ技術により作製したマスクをX線に置くことにより、PMMA基板上に良好な三次元微細構造を加工できる。一連の直接レーザ焼Shi金薄膜を用いて、一連のミクロ構造を持つ吸収体図形を加工でき、さらにこの図形をPMMA基板上に書き込み、得られた最低ピクセルは25ΜMである。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 微細構造 ,  薄膜 ,  *X線 ,  *レーザ ,  *エキシマレーザ ,  生産工程 ,  吸収体 ,  電子ビーム ,  三次元 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  製造原価 ,  画素
準シソーラス用語： ミクロ構造 ,  微細加工技術 ,  LIGAプロセス , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： エキシマレーザ ,  プロセス ,  X線 ,  光マスク ,  作製