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J-GLOBAL ID:201702276378820319   整理番号:17A0116462

回転磁化曲線アプローチを用いた交換バイアス二重層における磁化の回転過程の解析【Powered by NICT】

Analysis on magnetization rotational process in exchange-bias bilayers with rotational magnetization curve approach
著者 (5件):
資料名:
巻: 2016  号: ICSAI  ページ: 615-619  発行年: 2016年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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回転磁化曲線アプローチを用いて,理論計算と実験測定と交換バイアス二重層系の磁化回転過程を調べた。すべてEB二分子層を対象に,磁化の面内回転は外部磁場の増加に伴って非逆,不連続反転と連続反転磁化回転過程を経験することができる。EB二層膜の磁化回転過程は,外部磁場の大きさにより決定した。さらに,一軸異方性場と一方向性異方性磁場,試料とそれらの比のそれらの間の比は臨界スイッチング外部磁場,磁化回転過程を三つの部分に分けた異なるケースに影響を及ぼした。理論計算はこれらの異なる磁化回転過程,実験結果により証明されたを示した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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金属の磁区及び磁化過程 

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