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J-GLOBAL ID：201702276784077275   整理番号：17A0468159

550°CでアニールしたFe_xPd1_-x薄膜の結晶構造と磁気的性質

Crystal structure and magnetic properties of Fe_xPd_1-x thin films annealed at 550 °C

著者 (7件)： LIU T. (Guilin Univ. Electronic Technol., Guilin, CHN) ,  MA L. (Guilin Univ. Electronic Technol., Guilin, CHN) ,  ZHAO S. Q. (Guilin Univ. Electronic Technol., Guilin, CHN) ,  MA D. D. (Guilin Univ. Electronic Technol., Guilin, CHN) ,  LI L. (Guilin Univ. Electronic Technol., Guilin, CHN) ,  CHENG G. (Guilin Univ. Electronic Technol., Guilin, CHN) ,  RAO G. H. (Guilin Univ. Electronic Technol., Guilin, CHN)
資料名： Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 28  号： 4  ページ： 3616-3620  発行年： 2017年02月 
JST資料番号： W0003A  ISSN： 0957-4522  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： FePt,CoPt,FePdのようなLl₀強磁性合金は,記録媒体,スピントロニック素子などへの応用可能性から広く調べられている。厚さ47±2nmの多結晶Fe_xPd_1-x(x=37~64at%)薄膜を石英ガラス基板上にdcマグネトロンスパッタリングで作り,550°C3hのアニーリングを施したx≦37at%ではゆがみ構造で軟磁性である。550°Cの熱処理後,Fe₄₃Pd₅₇膜は面心立方晶(fcc)-面心正方晶(fct)の相遷移が始まる。Fe含有量が等原子量に近づくと,Fe₅₁Pd₄₉膜が最適であり,抗磁力(H_c),残留磁化/飽和磁化比(M_c)/(M_s),最大磁気エネルギー積(BH_max)は300Kでそれぞれ3.5kOe,0.94,17.6MGOeに達し,H_cは120Kで4.3kOeに増加した。FePd膜のfcc-fct遷移が550°C以下になり良い磁気特性が達成された。

シソーラス用語： *鉄合金 ,  *パラジウム合金 ,  薄膜 ,  強磁性 ,  磁性合金 ,  *結晶構造 ,  *磁気的性質 ,  焼なまし ,  磁性 ,  相変態 ,  保磁力 ,  残留磁化 ,  飽和磁化 ,  曲線 ,  FCC金属 ,  金属結晶
準シソーラス用語： アニーリング ,  ヒステリシスループ ,  抗磁力 ,  相遷移 ,  軟磁性 ,  面心正方晶金属 ,  面心立方金属

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (4件)： アニール ,  薄膜 ,  結晶構造 ,  磁気的性質