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J-GLOBAL ID：201702276833898151   整理番号：17A0703032

高分子光触媒における励起子過程への洞察【Powered by NICT】

Insights into the excitonic processes in polymeric photocatalysts

著者 (10件)： Wang Hui (Hefei National Laboratory for Physical Science at the Microscale, Collaborative Innovation Center of Chemistry for Energy Materials, Synergetic Innovation Center of Quantum Information and Quantum Physics, University of Science and Technology of China, Hefei,...) ,  Jiang Shenlong ,  Chen Shichuan ,  Zhang Xiaodong ,  Shao Wei ,  Sun Xianshun ,  Zhao Zhi ,  Zhang Qun ,  Luo Yi ,  Xie Yi
資料名： Chemical Science (Web)  (Chemical Science (Web))
巻： 8  号： 5  ページ： 4087-4092  発行年： 2017年 
JST資料番号： U7042A  ISSN： 2041-6539  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 半導体における光励起プロセスは優れた光触媒材料の設計にとって重要である。それにもかかわらず,多体効果を考慮して,特に高分子光触媒のためのすれば従来の視点は光生成した自由電荷キャリア,何らかの無効に焦点を当てた。ここでは,光ルミネセンス分光法と超高速過渡吸収分光法を組み合わせた初めてのための良く知られた光触媒における強い励起子効果を検証による黒鉛状窒化炭素(g C_3N_4)のポリマーマトリックスに関与する光励起過程を系統的に調べた。二つの三重項励起子は一重項励起子を生成するために衝突する,ロバストな三重項-三重項消滅過程の同定は,励起種の重要な無放射脱占有経路を明らかにし,それによって高分子g C_3N_4の光触媒活性を調節する潜在的戦略である。高分子g C_3N_4マトリックス中の光触媒機構の新しい理解を確立し,このようにして励起子工学による有効高分子光触媒を設計するための道を開くものである。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 半導体 ,  *高分子 ,  三重項-三重項消滅 ,  光ポンピング ,  光ルミネセンス ,  *光触媒 ,  *励起 ,  グラファイト ,  一重項 ,  スペクトロスコピー ,  *励起子
準シソーラス用語： 窒化炭素 ,  過渡吸収分光法 ,  超高速 ,  電荷キャリア , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (5件)： 酸化,還元  (CF02060T) ,  分子化合物  (CE02000C) ,  有機ほう素化合物  (CF08020R) ,  光化学一般  (CB08010U) ,  その他の触媒  (CB06123Z)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高分子 ,  光触媒 ,  励起子 ,  過程 ,  洞察