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J-GLOBAL ID:201702278524779596   整理番号:17A0795083

高性能500V準および完全垂直GaN-on-Si pnダイオード【Powered by NICT】

High-Performance 500 V Quasi- and Fully-Vertical GaN-on-Si pn Diodes
著者 (7件):
資料名:
巻: 38  号:ページ: 248-251  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0344B  ISSN: 0741-3106  CODEN: EDLEDZ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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記録性能を有する完全に垂直GaN-on-Si pnダイオードを準及び実証した。最適化されたデバイス構造は,高度に伝導性の(N_D>10~20cm~ 3)集電層と微量炭素をドープしたドリフト層を採用している。この最適化により,0.8~1mΩ.cm~2の微分固有オン-抵抗(R_ON),500V以上の降伏電圧(BV),及び高い順方向電流(~kA/cm ~2)を実証した。300°Cまで優れたR_ONとBV性能も得られた。50nsの小さな逆回復時間はスイッチング条件下で実証した。Baligaの0.32の字GW/cm~2以上の性能により,これらのデバイスは将来の電力応用のための低コストGaN-on-Si垂直デバイスの大きな可能性を示した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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ダイオード  ,  トランジスタ 

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