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J-GLOBAL ID：201702282112386196   整理番号：17A0404501

放射性核種の吸着除去のための多孔質還元グラフェン酸化物をベースとした逆スピネルニッケルフェライトナノ複合材料の調製と特性化【Powered by NICT】

Preparation and characterization of porous reduced graphene oxide based inverse spinel nickel ferrite nanocomposite for adsorption removal of radionuclides

著者 (6件)： Lingamdinne Lakshmi Prasanna (Department of Environmental Engineering, Kwangwoon University, Seoul, 139-701, Republic of Korea) ,  Choi Yu-Lim (Department of Environmental Engineering, Kwangwoon University, Seoul, 139-701, Republic of Korea) ,  Kim Im-Soon (Graduate School of Environmental Studies, Kwangwoon University, Seoul, 139-701, Republic of Korea) ,  Yang Jae-Kyu (Ingenium College of Liberal Arts, Kwangwoon University, Seoul, 139-701, Republic of Korea) ,  Koduru Janardhan Reddy (Graduate School of Environmental Studies, Kwangwoon University, Seoul, 139-701, Republic of Korea) ,  Chang Yoon-Young (Department of Environmental Engineering, Kwangwoon University, Seoul, 139-701, Republic of Korea)
資料名： Journal of Hazardous Materials  (Journal of Hazardous Materials)
巻： 326  ページ： 145-156  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0362A  ISSN： 0304-3894  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ウラン(VI)(U(VI))及びトリウム(IV)(Th(IV))の除去のために,グラフェン酸化物ベース逆スピネルニッケルフェライト(GONF)ナノ複合材料および還元グラフェン酸化物をベースとした逆スピネルニッケルフェライト(rGONF)ナノ複合材料をワンポットでニッケルと鉄塩によるGOの共沈により調製した。スペクトル特性解析はGONFとrGONFは41.41nmと32.16nmの平均粒径を有する多孔性表面形態を有することを明らかにした。磁気特性測定システム(MPMS)研究は,強磁性GONFと超常磁性rGONFの形成を確認した。吸着速度研究は擬2次動力学はU(VI)及びTh(IV)吸着に良く調整することを見出した。吸着等温線の結果は,U(VI)とTh(IV)の吸着はGONFとrGONFの均一表面上の単分子層に起因することを示した。U(VI)とTh(IV)の吸着は系の温度が293から333±2Kへ増加した。熱力学的研究はGONFとrGONFへのU(VI)とTh(IV)の吸着が吸熱であることを明らかにした。,外部磁場により分離することができ,GONFとrGONFは吸着容量の顕著な損失もなく五サイクルまでリサイクルされ,再利用した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 再利用 ,  超常磁性 ,  共沈 ,  *ニッケルフェライト ,  吸着速度 ,  *ナノ複合材料 ,  外部磁場 ,  *ニッケル ,  *吸着 ,  吸着等温式 ,  *キャラクタリゼーション ,  *多孔性 ,  単分子層
準シソーラス用語： 吸着容量 ,  *酸化グラフェン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 吸着 ,  酸化グラフェン ,  グラフェン酸化物に基づくニッケルフェライト ,  ウラン(VI) ,  トリウム(IV) ,  XPS研究

分類 (6件)： 吸着剤  (YB03000W) ,  染料  (YJ05000I) ,  用水の化学的処理  (SC02040E) ,  同位体分離  (CB10030R) ,  その他の汚染原因物質  (SB05040W) ,  重金属とその化合物一般  (SB05021R)

タイトルに関連する用語 (7件)： 放射性核種 ,  吸着除去 ,  多孔質 ,  還元グラフェン酸化物 ,  複合材料 ,  調製 ,  特性化