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J-GLOBAL ID：201702283485564743   整理番号：17A0324975

金属錯体生成感度を持つ光応答性高分子アゾピリジン配位子コバルト(II)Schiff塩基の高分子錯体の配位平衡研究への応用【Powered by NICT】

A photo-responsive polymeric azopyridine ligand with metal-complexation sensitivity: application to coordination equilibrium studies on the polymer complexes of a cobalt(ii) Schiff base

著者 (4件)： Suzuki T. (Department of Green & Sustainable Chemistry, School of Engineering, Tokyo Denki University, 5 Senjyu Asahi-cho Adachi-ku, Tokyo, Japan. [e-mail]) ,  Moriya T. ,  Endo R. ,  Iwasaki N.
資料名： Polymer Chemistry  (Polymer Chemistry)
巻： 8  号： 4  ページ： 761-768  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2349A  ISSN： 1759-9954  CODEN： PCOHC2  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 共重合体,P(EHMA APMA),メタクリル酸エチルヘキシルから成る(EHMA)と光応答性アゾピリジンメタクリル酸(A PMA)の溶液中では,APMAのE型は,UV照射でZ型への光可逆性異性化を示した。コバルト(ii)Schiff塩基(CoS)を添加した後,共重合体複合体,P(EHMA-(E)-APMA)-CoS,を作製し,CoSに配位した(E)-APMA部分はもはや光誘起異性化を受けた。(E)-APMAの錯体生成感度異性化は,大きな消衰係数を有し,希薄溶液におけるCoS(E)-APMAの配位反応の見かけの平衡定数(K_app)は25°Cで4.4×10~4M~ 1([APMA部分]=0.05mM)と1.0×10~5M~ 1([APMA部分]=0.003mM)であると計算された。得られた濃度依存大K_app値は主にミクロ不均一溶液環境,大きな溶媒相によるミクロ懸濁液と極端な希釈に起因する小さい高分子ドメイン相から成るに起因して,高分子領域にのみ局在配位高分子APMA配位子の局所濃度効果により五配位CoSの熱力学的安定化に加えて。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *高分子 ,  *光応答性高分子 ,  希薄溶液 ,  平衡定数 ,  紫外線照射 ,  熱力学 ,  *高分子錯体 ,  懸濁液 ,  異性化 ,  *錯体生成 ,  可逆性
準シソーラス用語： 濃度効果 ,  消衰係数 ,  光誘起 ,  *光応答 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 共重合  (CG04030D) ,  重合触媒,重合開始剤  (CG04070V) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (10件)： 金属錯体 ,  感度 ,  光応答性高分子 ,  配位子 ,  コバルト ,  Schiff塩基 ,  高分子錯体 ,  平衡 ,  研究 ,  応用