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J-GLOBAL ID：201702285527667050   整理番号：17A0400671

水溶液キトサン溶液の乾燥中における物理的変化と光学的異方性の実時間追跡:乾燥のモデル化【Powered by NICT】

Real-time tracking of physical changes and optical anisotropy during drying of aqueous chitosan solution: Modeling of drying

著者 (5件)： Mu Shenglong (Polymer Engineering Department, University of Akron, Akron, OH 44325-0301, United States) ,  Wang Enmin (Polymer Engineering Department, University of Akron, Akron, OH 44325-0301, United States) ,  Shams Es-haghi S. (Polymer Engineering Department, University of Akron, Akron, OH 44325-0301, United States) ,  Guo Yuanhao (Polymer Engineering Department, University of Akron, Akron, OH 44325-0301, United States) ,  Cakmak Miko (Polymer Engineering Department, University of Akron, Akron, OH 44325-0301, United States)
資料名： Polymer  (Polymer)
巻： 108  ページ： 206-214  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0472B  ISSN： 0032-3861  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ブレード鋳造水溶性キトサン溶液の乾燥挙動は,厚さ,重量,温度と面内および面外複屈折を追跡できることをカスタム設計された実時間解析システムを用いて検討した。臨界溶媒濃度を超えると,初期等方性鋳造解は,平面複屈折測定により検出された光学異方性を急激に発達させ,面内等方性のままである。増加乾燥温度と空気流速度は乾燥速度を加速したが反対方向に複屈折レベルを変化させることができる。より高い乾燥温度で得られた低複屈折が,気流速度が増加すると高い複屈折が観察された。これは膜と高分子鎖緩和での残留応力発達の累積効果によるものであった。古典的不可逆熱力学の枠組みの中で開発した熱力学的にコンシステントなモデルを用いて,著者らは,溶媒の乾燥過程中の濃度と温度プロファイルの乾燥動力学と進化を定量的に記述する。モデルはいかなるフィッティングパラメータを用いないで,実験データを正確に記述できることを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *モデリング ,  *キトサン ,  高分子鎖 ,  熱力学 ,  空気流 ,  水溶性 ,  温度分布 ,  乾燥速度 ,  複屈折 ,  *水溶液 ,  残留応力 ,  等方性
準シソーラス用語： 気流速度 ,  乾燥温度 ,  *光学異方性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： リアルタイム ,  キトサン ,  モデリング ,  乾燥

分類 (2件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (7件)： 水溶液 ,  キトサン ,  溶液 ,  物理 ,  光学的異方性 ,  実時間追跡 ,  モデル化