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J-GLOBAL ID：201702286072864153   整理番号：17A0325275

ロジウム触媒縫合反応による非対称ジベンゾ[a,e]ペンタレンの選択的合成【Powered by NICT】

Selective synthesis of unsymmetric dibenzo[a,e]pentalenes by a rhodium-catalysed stitching reaction

著者 (4件)： Takahashi Keisuke (Department of Chemistry and Biotechnology, Graduate School of Engineering, The University of Tokyo, 7-3-1 Hongo, Bunkyo-ku, Tokyo 113-8656, Japan. [e-mail] [e-mail] [e-mail]) ,  Ito Shingo ,  Shintani Ryo ,  Nozaki Kyoko
資料名： Chemical Science (Web)  (Chemical Science (Web))
巻： 8  号： 1  ページ： 101-107  発行年： 2017年 
JST資料番号： U7042A  ISSN： 2041-6539  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2-(シリルエチニル)アリールボロン酸エステルと2-(シリルエチニル)アリルブロミド間のロジウム触媒ステッチング反応は非対称ジベンゾ[a,e]ペンタレンの合成のために開発した。出発基板上に適当な大きさのシリル基の導入は,過剰量の基質を用いることなく,高い交差選択性につながった。ステッチング反応は非対称ジベンゾ[a,e]ペンタレン誘導体の多様性を生み出すことができ,縮合ベンゼン環上の電子的に異なる置換基を持つものとして,ヘテロアレーン縮合化合物を含む。脱シリルハロゲン化は,対応するハロゲン化ジベンゾ[a,e]ペンタレン,更なる化学変換のためのビルディングブロックとして使用できるを合成することを実証した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *縫合術 ,  基質 ,  ハロゲン化 ,  *非対称性 ,  縮合反応 ,  *ロジウム触媒
準シソーラス用語： ビルディングブロック ,  脱シリル ,  置換基 ,  シリル基 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 有機けい素化合物  (CF08030C)

タイトルに関連する用語 (4件)： ロジウム触媒 ,  縫合 ,  非対称 ,  ペンタレン