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J-GLOBAL ID：201702287124518794   整理番号：17A0452761

多孔質ナノ構造酸化チタン膜の電場支援よどみ旋回火炎合成【Powered by NICT】

Electric-field-assisted stagnation-swirl-flame synthesis of porous nanostructured titanium-dioxide films

著者 (5件)： Xiong Gang (Department of Mechanical and Aerospace Engineering, Rutgers University, Piscataway, New Jersey 08854, United States) ,  Kulkarni Aditi (Department of Mechanical and Aerospace Engineering, Rutgers University, Piscataway, New Jersey 08854, United States) ,  Dong Zhizhong (Department of Mechanical and Aerospace Engineering, Rutgers University, Piscataway, New Jersey 08854, United States) ,  Li Shuiqing (Department of Thermal Engineering, Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Tse Stephen D. (Department of Mechanical and Aerospace Engineering, Rutgers University, Piscataway, New Jersey 08854, United States)
資料名： Proceedings of the Combustion Institute  (Proceedings of the Combustion Institute)
巻： 36  号： 1  ページ： 1065-1075  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0273A  ISSN： 1540-7489  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高い均一性と低い充填密度を持つメソ多孔性ナノ構造の二酸化チタン(TiO_2)膜を,印加電場下でよどみ旋回火炎装置で合成した基板上の電圧バイアスとバーナを接地した。一様な外部電場強度と極性の影響を種々の基板温度と前駆体負荷濃度について研究した。結果は膜特性にかなりの相違を明らかにし,異なる電場のための,より多くの柱状構造と高い空孔率±400Vまで低基板電圧下で生成した興味深いことに,膜は,±800Vの高い電圧でより高い充填密度を持っている低基板温度では,形態と構造をナノ粒子の基板上の焼結のために,より顕著であった。低基板電圧では,荷電粒子が基板に誘引され,それらの電気泳動速度の増加が,それらの火炎内成長と凝塊を減少させ,より小さな粒径をもたらした。van der Waals力と誘起された双極子-双極子相互作用に加えて,低い充填密度をもつより柱状構造成長が生じる。大規模電圧では,粒子を適用し,反発とより長い火炎中に存在するが,火炎内の凝集と粒径を増加させると電圧バイアスと同じ電荷極性を獲得するようである。より高い充填密度をもつ分枝構造化膜成長が発達した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 双極子相互作用 ,  ナノ粒子 ,  バイアス ,  *電場 ,  基板温度 ,  *多孔性 ,  電荷 ,  粒径 ,  *ナノ構造 ,  構造形成 ,  van der Waals力 ,  極性
準シソーラス用語： 柱状構造 ,  二酸化チタン ,  充填密度 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 多孔質膜 ,  二酸化チタン ,  電場 ,  充填密度 ,  火炎合成

分類 (1件)： 燃焼一般  (XE04010W)

タイトルに関連する用語 (8件)： 多孔質 ,  ナノ構造 ,  酸化チタン膜 ,  電場 ,  支援 ,  よどみ ,  旋回 ,  火炎合成