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J-GLOBAL ID：201702288831144170   整理番号：17A0551110

酸化レートの変化からみた4H-SiC Si面ウェット酸化雰囲気中に共存する酸素の役割

著者 (2件)： 石野田圭 (東大 大学院工学系研究科) ,  喜多浩之 (東大 大学院工学系研究科)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 64th  ページ： ROMBUNNO.17p-301-4  発行年： 2017年03月01日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 酸化 ,  *反応速度 ,  *炭化ケイ素 ,  *酸素 ,  水 ,  分圧 ,  *酸化速度 ,  含量依存性
準シソーラス用語： *4H-SiC ,  含有量依存性

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (8件)： 酸化 ,  レート ,  4H-SiC ,  Si ,  酸化雰囲気 ,  共存 ,  酸素 ,  役割