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J-GLOBAL ID：201702294821393467   整理番号：17A0026339

X線イメージング用のミクロン厚のCsI(Tl)膜の作製と性能

Fabrication and Performance of Micron Thick CsI(Tl) Films for X-Ray Imaging Application

著者 (7件)： Guo Lina (School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, China) ,  Liu Shuang (School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, China) ,  Chen Dejun (School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, China) ,  Zhang Shangjian (School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, China) ,  Liu Yong (School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, China) ,  Zhong Zhiyong (State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, China) ,  Falco Charles M. (College of Optical Sciences, University of Arizona, Tucson, AZ, USA)
資料名： IEEE Transactions on Nuclear Science  (IEEE Transactions on Nuclear Science)
巻： 63  号： 3  ページ： 1827-1831  発行年： 2016年 
JST資料番号： C0235A  ISSN： 0018-9499  CODEN： IETNAE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CsI(Tl)シンチレータ膜は,間接X線イメージングの変換スクリーンとして広く応用されている。本研究では,同じ堆積条件の熱蒸着法により,異なる厚みのCsI(Tl)膜をガラス基板上に作製した。走査型電子顕微鏡(SEM)およびX線回折(XRD)により,膜の微細構造および結晶性に及ぼす膜厚の影響を調べた。膜の光ルミネセンススペクトルを測定した。スペクトルは550nmと740nmにピークを有する二峰性分布を示した。X線照射条件下でCCDカメラシステムと連結されたミクロン厚のフィルムを用いて,放射性ルミネッセンスおよび画像形成性能を観察した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST

シソーラス用語： *X線画像 ,  厚膜 ,  *ヨウ化セシウム ,  固体シンチレータ ,  *真空蒸着 ,  電子顕微鏡観察 ,  X線回折 ,  光ルミネセンス ,  発光スペクトル ,  放射線ルミネセンス ,  ドーピング ,  タリウム
準シソーラス用語： *X線イメージング ,  蛍光スクリーン

分類 (2件)： 放射線検出・検出器  (AD08020J) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： X線イメージング ,  厚 ,  CSI ,  Tl ,  作製