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J-GLOBAL ID：201002211683216503   整理番号：10A1605265

リング設置による円柱からの渦放出抑制(渦放出抑制のメカニズム)

著者 (1件)： 中村元 (防衛大)
資料名： 日本機械学会年次大会講演論文集  (日本機械学会年次大会)
巻： 2010  号： Vol.2  ページ： 169-170  発行年： 2010年09月04日 
JST資料番号： X0587B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 流れに直交した円柱(直径d)に,円筒形のリング(直径1.3d,幅d)を軸方向に3d程度の間隔で配列すると,Re_d≧20000で渦放出が抑制される。このメカニズムを明らかにするため,流れの可視化やPIV計測を行った。その結果,以下のように考察した。(1)リング端部で形成されるコーナー渦が圧力差によってリング側方に流れ込み,乱れが促進される。(2)リング側面で一旦はく離した流れがRe_d≧20000で乱流遷移し,リング背面に再付着する。(3)その結果,リングの後流が著しく縮小し,それがリング背後における大規模な循環対(±ω_y)を誘起する。(4)この循環対が二次元的な渦放出の形成を妨げる。(著者抄録)

シソーラス用語： *直交流 ,  流れ場 ,  円柱 ,  放出 ,  制御 ,  *リング ,  Reynolds数 ,  流れの可視化 ,  粒子画像流速測定 ,  圧力効果 ,  再付着流 ,  伴流 ,  三次元流
準シソーラス用語： 渦放出 ,  *流れ制御【流体】

分類 (1件)： 物体の周りの流れ  (BC02040N)

タイトルに関連する用語 (3件)： 円柱 ,  渦放出 ,  メカニズム