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J-GLOBAL ID：201002293100527812   整理番号：10A1041976

マイクロ波を用いたシリカ被覆金ナノ粒子の調製法に関する研究

著者 (6件)： 渡邊瞬 (宇都宮大 大学院) ,  BAHADUR N.M. (宇都宮大 大学院) ,  倉山文男 (宇都宮大) ,  古澤毅 (宇都宮大 大学院) ,  佐藤正秀 (宇都宮大 大学院) ,  鈴木昇 (宇都宮大 大学院)
資料名： 化学工学会関東支部大会研究発表講演要旨集  (化学工学会大会研究発表講演要旨集)
巻： 2010  ページ： 98  発行年： 2010年07月19日 
JST資料番号： L1504A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *マイクロ波照射 ,  *被覆 ,  *金 ,  *ナノ粒子 ,  *調製 ,  還元 ,  超純水 ,  クロロ錯体 ,  金錯体 ,  水溶液 ,  コロイド ,  アンモニア ,  洗浄 ,  脂肪族アルコール ,  無機酸エステル ,  脂肪族カルボン酸 ,  ヒドロキシ酸 ,  ポリカルボン酸 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  塩化金酸

分類 (3件)： 反応操作(単位反応)  (XE01040I) ,  その他の無機工業薬品,無機材料  (YB02090K) ,  固体の製造・処理一般  (XD03021O)

物質索引 (3件)： TEOS ,  エタノール ,  クエン酸

タイトルに関連する用語 (5件)： マイクロ波 ,  シリカ被覆 ,  金ナノ粒子 ,  調製法 ,  研究