量子エンタングルメント生成装置及び方法並びに量子エンタングルメント生成検出装置及び方法

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：平山一幸
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2008064436
公開番号（公開出願番号）：WO2009-025195
出願日： 2008年08月11日
公開日（公表日）： 2009年02月26日
要約：

量子エンタングルメント生成装置(30)は、光周波数2f0の光を発生するレーザー光源(1)と、光周波数2f0の光が入射されるビームスプリッタ(4)及び複数の鏡(5,7,8)でリング状光路が構成されるリング型干渉計(20)と、リング型干渉計の光路中に挿入され、光周波数2f0の光が入射すると光周波数f0の光を発生する光パラメトリック増幅器(6)と、リング型干渉計の光路中に挿入され、光周波数2f0の光と光周波数f0との相対的な光路長を変化させる分散媒質(9)と、を備え、ビームスプリッタ(4)で分岐されリング型干渉計(20)内を互いに反対方向へ進む2つの光周波数2f0の光を、光パラメトリック増幅器(6)に入射させることで、リング型干渉計内を互いに反対方向へ進む第1及び第2のスクイーズ光を発生させ、第1及び第2のスクイーズ光の相対的な位相を分散媒質(9)により所定の値に調整し、第1及び第2のスクイーズ光を、ビームスプリッタ(4)で合波することにより量子エンタングルビーム(10,11)を生成する。

請求項（抜粋）：

光周波数2f0の光を発生するレーザー光源と、上記光周波数2f0の光が入射されるビームスプリッタ及び複数の鏡でリング状光路が構成されるリング型干渉計と、上記リング型干渉計の光路中に挿入され、上記光周波数2f0の光が入射すると光周波数f0の光を発生する光パラメトリック増幅器と、上記リング型干渉計の光路中に挿入され、上記光周波数2f0の光と上記光周波数f0との相対的な光路長を変化させる分散媒質と、を備え、上記ビームスプリッタで分岐され上記リング型干渉計内を互いに反対方向へ進む2つの光周波数2f0の光を上記光パラメトリック増幅器に入射させることで、上記リング型干渉計内を互いに反対方向へ進む第1及び第2のスクイーズ光を発生させ、上記第1及び第2のスクイーズ光の相対的な位相を上記分散媒質により所定の値に調整し、上記第1及び第2のスクイーズ光を上記ビームスプリッタで合波することにより量子エンタングルビームを生成する、量子エンタングルメント生成装置。

IPC (3件)：

G02F 1/39 , G02F 1/377 , G02F 2/00

FI (3件)：

G02F1/39 , G02F1/377 , G02F2/00

Fターム (13件)：

2K002AB12 , 2K002AB19 , 2K002AB40 , 2K002BA01 , 2K002BA02 , 2K002BA04 , 2K002CA02 , 2K002CA03 , 2K002DA03 , 2K002EA30 , 2K002HA02 , 2K002HA20 , 2K002HA21

引用特許：

出願人引用 (1件)

H. J. Kimble et al., U.S.Patent 5,339,182, Aug. 16, 1994

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