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J-GLOBAL ID：201102253611832201   整理番号：11A1559982

スルホン化処理をした炭素膜の透過物性(2)

著者 (4件)： 石川裕晃 (山口大 大学院) ,  田中一宏 (山口大 大学院) ,  喜多英敏 (山口大 大学院) ,  舩岡正光 (三重大 大学院)
資料名： 化学工学会秋季大会研究発表講演要旨集(CD-ROM)  (化学工学会秋季大会(CD-ROM))
巻： 43rd  ページ： ROMBUNNO.P2C07  発行年： 2011年08月14日 
JST資料番号： L0827B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *炭素 ,  *薄膜 ,  *細孔構造 ,  *表面処理 ,  *スルホン化 ,  フェノール樹脂 ,  リグニン ,  製膜 ,  二酸化炭素 ,  吸着等温式 ,  パーベーパレーション ,  *膜透過
準シソーラス用語： 浸透気化法 ,  *炭素膜 ,  分離膜

分類 (3件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  固-気界面一般  (CB12041H) ,  膜分離  (XD02120Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： スルホン化 ,  炭素膜 ,  透過 ,  物性