特許
J-GLOBAL ID：201103010442241235
マイクロスフィアの連続製造装置
発明者：
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
小山 有
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-083946
公開番号（公開出願番号）：特開平11-276802
特許番号：特許第3081880号
出願日： 1998年03月30日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 連続相に比較して比重の小さな分散相を連続相中に送り込んでマイクロスフィアを製造する装置において、この装置は、垂直方向または傾斜して配置される基板と、この基板に対向配置されるプレートを備え、前記基板には分散相の供給口が形成され、また前記基板のプレートとの対向面には分散相が供給される空間と連続相が供給される空間とを画成する境界部が分散相の供給口を囲むように設けられ、この境界部のうち前記分散相の供給口よりも上方となる箇所には一定幅のマイクロチャネルが上下方向に多数形成され、このマイクロチャネルを介して分散相と連続相とが接触する構造になっており、更に前記マイクロチャネルよりも上方位置にマイクロスフィアの取出口が設けられていることを特徴とするマイクロスフィアの製造装置。
IPC (4件)：
B01F 3/08
, B01D 17/00 503
, B01F 5/00
, B01J 13/00
B01F 3/08 A
, B01D 17/00 503 B
, B01F 5/00 A
, B01J 13/00 A
