特許
J-GLOBAL ID：201103013199657486
任意の表面特性及び表面形状を有する基体表面へのシリカ薄膜の製造方法及び複合構造体
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須藤 政彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-076093
公開番号（公開出願番号）：特開2003-277041
特許番号：特許第4482679号
出願日： 2002年03月19日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 疎水性表面を有する基体表面に接合したシリカ薄膜の形成を可能とするシリカ薄膜の製造方法であって、
(1)シリコンアルコキシド、アルコール、水及びアルカリからなる溶液に基体を浸漬する、
(2)アルコール溶媒中でのシリコンアルコキシドの加水分解により液中に形成される直径1〜30nmの過渡的なケイ酸コロイド(低密度ケイ酸コロイド)を生ぜしめる、
(3)これらの基体への付着と脱水重縮合により液中で基体上に均一な所定の膜厚のシリカ薄膜を形成する、
(4)上記膜形成過程で反応液を揺動させること、溶媒を循環させること、又は反応槽を震盪することにより反応液を動的な状態に保持して、上記(2)により液中に形成された低密度ケイ酸コロイドの基体表面への付着を促進させる、
ことを特徴とするシリカ薄膜の製造方法。
IPC (4件)：
C01B 33/12 ( 200 6.01)
, H01L 21/316 ( 200 6.01)
, B29C 41/14 ( 200 6.01)
, C03C 17/25 ( 200 6.01)
C01B 33/12 C
, H01L 21/316 G
, B29C 41/14
, C03C 17/25 A
