特許
J-GLOBAL ID：201103014535688936

無電解ニッケルめっき廃液の処理方法

発明者：
岡 徹雄

岡 徹雄 について

, 
田中 克昌

田中 克昌 について

, 
木村 貴史

木村 貴史 について

, 
辻村 盛夫

辻村 盛夫 について

, 
寺澤 俊久

寺澤 俊久 について


出願人/特許権者：
国立大学法人 新潟大学

国立大学法人 新潟大学 について

, 
愛知技研株式会社

愛知技研株式会社 について

, 
株式会社イムラ材料開発研究所

株式会社イムラ材料開発研究所 について


代理人 (2件)： 牛木 護 ,  高橋 知之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-230410
公開番号（公開出願番号）：特開2011-104584
出願日： 2010年10月13日
公開日（公表日）： 2011年06月02日
要約：
【課題】廃棄物が少なく、環境負荷が小さく、大掛かりな装置とスペースを必要とせず、短時間、低コストかつ簡便な操作で、無電解ニッケルめっき廃液から硫酸ニッケル及びこれを含む再生液を回収して再利用することのできる、無電解ニッケルめっき廃液の処理方法を提供する。【解決手段】無電解ニッケルめっき廃液から亜リン酸ニッケルを沈殿として取り出し、この亜リン酸ニッケルを硫酸で処理して硫酸ニッケルとして晶出させ、この硫酸ニッケルを磁気分離によって回収する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
無電解ニッケルめっき廃液から亜リン酸ニッケルを沈殿として取り出し、この亜リン酸ニッケルを硫酸で処理して硫酸ニッケルとして晶出させ、この硫酸ニッケルの結晶を磁気分離によって回収することを特徴とする無電解ニッケルめっき廃液の処理方法。
IPC (5件)：
C02F 1/62 ,  C23C 18/16 ,  C23C 18/36 ,  B03C 1/00 ,  C01G 53/10
FI (5件)：
C02F1/62 Z ,  C23C18/16 Z ,  C23C18/36 ,  B03C1/00 A ,  C01G53/10
Fターム (15件)：
4D038AA08 ,  4D038AB67 ,  4D038AB81 ,  4D038BA02 ,  4D038BA04 ,  4G048AA07 ,  4G048AB08 ,  4G048AB09 ,  4G048AC08 ,  4G048AD03 ,  4G048AE01 ,  4K022BA14 ,  4K022DA01 ,  4K022DB02 ,  4K022DB23
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM